[發明專利]滾刷從動組件在審
| 申請號: | 202011135865.0 | 申請日: | 2020-10-22 |
| 公開(公告)號: | CN112246727A | 公開(公告)日: | 2021-01-22 |
| 發明(設計)人: | 陶利權;宋文超;于高洋;劉盈楹;王麗江;胡天水;張偉鋒;閆蕓 | 申請(專利權)人: | 北京半導體專用設備研究所(中國電子科技集團公司第四十五研究所) |
| 主分類號: | B08B1/04 | 分類號: | B08B1/04;B08B13/00;F16D1/06 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 畢翔宇 |
| 地址: | 100176 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 從動 組件 | ||
本申請涉及晶片清洗設備技術領域,尤其是涉及一種滾刷從動組件,包括承載構件、限位導向構件、彈性復位機構、連接組件以及滾刷;其中,限位導向構件連接于承載構件,彈性復位機構滑動連接于限位導向構件;滾刷位于連接組件的一端部,且滾刷通過連接組件轉動連接于彈性復位機構;彈性復位機構位于連接組件的側部。可見,本滾刷從動組件與刷洗箱裝拆過程極其簡單,而且滾刷與連接組件之間不再設置有彈簧,減少了滾刷從動組件的長度,進而減小了機械手的長度,降低成本投入,同時使得晶片傳送過程更穩定,傳送效率更高。
技術領域
本申請涉及晶片清洗設備技術領域,尤其是涉及一種滾刷從動組件。
背景技術
目前,晶片濕法清洗設備內的清洗刷組件,其包括軸系結構和滾刷,滾刷通過軸系結構轉動連接于承載基板,其中滾刷的長度方向與軸系結構的軸線方向相同,而且為了便于清洗刷組件的組裝,沿著軸系結構的軸線延伸方向,軸系結構和滾刷之間還連接有彈簧,當沿著軸線方向推動滾刷時,壓縮彈簧至滿足滾刷的另一端具備能夠卡接到待裝配端后即具備卡接空間量后松手,可見,這種結構導致了清洗刷組件整體過長,由于實際清洗晶片時,由機械手向清洗刷組件輸送晶片,由于壓縮彈簧加長了軸系結構,導致沿著軸線的延伸方向的機械手的長度也相應增加,不僅成本投入高,而且導致晶片傳送不穩定,運行效率也降低。
發明內容
本申請的目的在于提供一種滾刷從動組件,在一定程度上解決了現有技術中存在的清洗刷組件的軸系結構和滾刷之間還連接有彈簧,加長了軸系結構,進而導致沿著軸線的延伸方向的機械手的長度也相應增加,不僅成本投入高,而且導致晶片傳送不穩定,運行效率也降低的技術問題。
本申請提供了一種滾刷從動組件,包括:承載構件、限位導向構件、彈性復位機構、連接組件以及滾刷;其中,所述限位導向構件連接于所述承載構件,所述彈性復位機構滑動連接于所述限位導向構件;
所述滾刷位于所述連接組件的一端部,且所述滾刷通過所述連接組件轉動連接于所述彈性復位機構;
所述彈性復位機構位于所述連接組件的側部;
當朝向所述連接組件推動所述滾刷時,所述彈性復位機構被擠壓并抵靠于所述限位導向構件,且同時所述彈性復位機構積聚能量,而后在所述滾刷被釋放時,所述彈性復位機構推動所述滾刷朝向遠離所述連接組件的方向運動。
在上述技術方案中,進一步地,所述彈性復位機構包括滑動構件、施力構件以及彈性構件;其中,所述滑動構件滑動連接于所述限位導向構件;
所述限位導向構件形成有貫穿其一側部的容納空間,所述施力構件設置于所述容納空間內,且所述施力構件的一端穿過所述容納空間的側部開口連接于所述滑動構件;
所述彈性構件也設置于所述容納空間內,且所述彈性構件的一端連接于所述限位導向構件,所述彈性構件的相對的另一端連接于所述施力構件。
在上述任一技術方案中,進一步地,所述連接組件包括從動轉動構件、間隙消除構件、第一軸承以及第二軸承;其中,所述導向構件形成有貫穿其兩側部的安裝腔,所述連接組件設置于所述安裝腔內;
所述從動轉動構件設置于所述限位導向構件的安裝腔內,且所述從動轉動構件的一端穿過所述安裝腔的一側開口與所述滾刷相連接;
所述第一軸承、所述間隙消除構件以及所述第二軸承依次套設于所述從動轉動構件的外部,且所述從動轉動構件通過所述第一軸承和所述第二軸承轉動連接于所述限位導向構件。
在上述任一技術方案中,進一步地,所述滾刷從動組件還包括第一壓蓋,所述第一壓蓋封蓋于所述限位導向構件的安裝腔的一側部開口處,且所述第一壓蓋與所述從動轉動構件相連接;
所述第一壓蓋壓設于所述第一軸承的遠離所述第二軸承的一側部,所述第二軸承的遠離所述第一軸承的一側部被壓設而抵靠于所述安裝腔的側壁。
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