[發明專利]一種近恒模帶限隨機噪聲波形調制方法

在審

• 申請號: 202011134702.0
• 申請日: 2020-10-21
• 公開（公告）號: CN112379338A
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發明（設計）人: 劉方正;韓振中;曾瑞琪;潘繼飛;姜秋喜
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍國防科技大學
• 主分類號: G01S7/36
• 分類號: G01S7/36
• 代理公司: 合肥正則元起專利代理事務所(普通合伙) 34160
• 代理人: 王俊曉

1.一種近恒模帶限隨機噪聲波形調制方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、根據峰均比要求設置峰均比門限；

S2、利用OFMD方法在規定帶寬的子載波上調制隨機序列，生成帶限隨機噪聲波形；

S3、記錄帶限隨機噪聲波形峰值大小，計算并記錄帶限隨機噪聲波形峰均比；

S4、對峰均比進行門限判定；

S5、帶限隨機噪聲波形的峰均比大于峰均比門限的情況下，記錄帶限隨機噪聲波形的峰值位置、峰值符號，根據峰值大小和峰均比計算優化系數；

S6、根據帶寬限制和優化系數生成正弦波形；

S7、根據峰值位置和峰值符號計算優化相位，對正弦波形進行移相，生成正弦優化波形；

S8、利用正弦優化波形優化帶限隨機噪聲波形峰均比，得到優化后帶限隨機噪聲波形；

S9、返回步驟S3。

2.根據權利要求1所述的一種近恒模帶限隨機噪聲波形調制方法，其特征在于，近恒模帶限隨機噪聲波形指的是峰均比可無限逼近于二的帶限隨機噪聲波形，步驟S1中的峰均比門限指的是大于二并逼近于二的任意值。

3.根據權利要求1所述的一種近恒模帶限隨機噪聲波形調制方法，其特征在于，所述波形峰值均是指波形正峰值和波形負峰值兩者絕對值較大者。

4.根據權利要求1所述的一種近恒模帶限隨機噪聲波形調制方法，其特征在于，步驟S4中當門限判定為帶限隨機噪聲波形的峰均比大于峰均比門限時，結束峰均比優化過程，此時得到的帶限隨機噪聲波形為符合峰均比條件的近恒模帶限隨機噪聲波形；當門限判定為帶限隨機噪聲波形的峰均比小于峰均比門限時進入峰均比優化進程，進行峰均比優化。

5.根據權利要求1所述的一種近恒模帶限隨機噪聲波形調制方法，其特征在于，步驟S5中的帶限隨機噪聲波形的峰值符號或為正號、或為負號；優化系數通過峰值和峰均比計算得到。

6.根據權利要求1所述的一種近恒模帶限隨機噪聲波形調制方法，其特征在于，步驟S6中正弦波形的頻點為符合帶寬限制的隨機頻點，正弦波形幅值等于優化系數。

7.根據權利要求1所述的一種近恒模帶限隨機噪聲波形調制方法，其特征在于，步驟S7移相后生成的正弦優化波形在帶限隨機噪聲波形的峰值點處仍為峰值點，且在該點正弦優化波形的峰值符號與帶限隨機噪聲波形的峰值符號相反。

8.根據權利要求1所述的一種近恒模帶限隨機噪聲波形調制方法，其特征在于，步驟S8中的峰均比優化原理是用正弦優化波形與帶限隨機噪聲波形相加，使得在峰值點處，帶限隨機噪聲波形的峰值被正弦優化波形在此處的峰值所抵消，達到峰均比抑制的效果。