[發明專利]電極隔離型超聲霧化機構、霧化器及消毒霧化設備

在審

• 申請號: 202011133740.4
• 申請日: 2020-10-21
• 公開（公告）號: CN112264242A
• 公開（公告）日: 2021-01-26
• 發明（設計）人: 盧剛俊;梁羽翔;何元琪;陳國良;馮錦云;葉衛忠
• 申請（專利權）人: 佛山市南海科日超聲電子有限公司
• 主分類號: B05B17/06
• 分類號: B05B17/06;A61L2/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.電極隔離型超聲霧化機構，包括基體，霧化組件，所述基體上設置有安裝孔；其特征在于，所述霧化組件包括布置在所述基體的內側的內支架體，所述內支架體包括有呈上部敞口狀的內容腔從而具有腔底壁，所述內容腔的上部敞口朝向所述安裝孔；在所述內容腔中設置有霧化晶片和位于所述霧化晶片下方的晶片支撐架，所述晶片支撐架擱置在所述腔底壁的上方；在所述霧化晶片的背面設置有兩個間隔開的正負電極即第一電極和第二電極，所述第一電極環繞著所述第二電極并彼此電隔離；兩個彈性電觸頭左右布置在所述霧化晶片的下方并分別電連接所述霧化晶片背面的正負電極，在所述晶片支撐架上部設置有適配于所述正負電極并敞口朝上的兩個凹坑，兩個所述凹坑通過間隔壁體彼此間隔開并各自容納一個所述電觸頭讓兩個所述電觸頭之間彼此電隔離。

2.根據權利要求1所述的電極隔離型超聲霧化機構，其特征在于，所述電觸頭具有彈性并彈性頂靠住所述霧化晶片背面的正負電極，所述電觸頭上電信號連接電引線，兩個所述電引線分別穿過所述內支架體的腔底壁、散熱鋁件延伸出來。

3.根據權利要求2所述的電極隔離型超聲霧化機構，其特征在于，所述晶片支撐架的下部設置有兩條對應于兩個所述電觸頭的延伸腿，所述腔底壁上設置有對應于所述延伸腿的底壁孔，所述延伸腿穿過并過盈配合連接所述底壁孔，兩個所述電觸頭的電引線分別穿過所述延伸腿并借助于所述延伸腿進而穿過所述腔底壁而延伸出來。

4.根據權利要求3所述的電極隔離型超聲霧化機構，其特征在于，還包括散熱鋁件，所述散熱鋁件具有與所述內支架體的外形適配的內凹腔，所述散熱鋁件通過所述內凹腔貼合在所述內支架體的外側并連接到所述基體上。

5.根據權利要求4所述的電極隔離型超聲霧化機構，其特征在于，所述散熱鋁件上設置有兩個對應于所述延伸腿的鋁件避讓孔，所述延伸腿穿過并過盈配合連接所述鋁件避讓孔，兩個所述電觸頭的電引線分別借助于所述延伸腿進而穿過所述散熱鋁件而延伸出來。

6.根據權利要求1所述的電極隔離型超聲霧化機構，其特征在于，所述凹坑的內徑與所述電觸頭的外徑尺寸正公差配合從而讓所述凹坑定位住所述電觸頭不能明顯地左右晃動。

7.根據權利要求1到6任一所述的電極隔離型超聲霧化機構，其特征在于，所述霧化組件包括呈環形的壓蓋和壓緊密封圈，所述內支架體還具有設置在所述腔底壁上的腔側壁，所述腔底壁與腔側壁形成所述內容腔；所述壓蓋具有壓蓋中央孔，所述壓蓋布置在所述內支架體的上面，所述基體被夾持在所述壓蓋與所述內支架體的腔側壁之間，所述基體通過所述壓緊密封圈實現與所述壓蓋、所述內支架體之間的密封連接，所述霧化晶片正面的中央區域位于所述壓蓋中央孔的下方。

8.根據權利要求7所述的電極隔離型超聲霧化機構，其特征在于，所述壓蓋包括有環壁部和裙邊部，所述壓蓋中央孔貫通設置在所述環壁部上，所述壓蓋的環壁部穿過所述安裝孔與所述腔側壁旋合連接，所述壓蓋的裙邊部頂壓在所述基體的外側面上，從而收緊所述內支架體時所述基體和壓緊密封圈被夾持在所述壓蓋的裙邊部與所述內支架體的腔側壁之間。

9.根據權利要求8所述的電極隔離型超聲霧化機構，其特征在于，在所述霧化晶片的外周套裝有晶片密封圈，所述壓蓋的環壁部的下端面頂壓在所述晶片密封圈上，所述晶片密封圈被夾持在所述壓蓋的環壁部與所述晶片支撐架之間從而實現對所述霧化晶片的密封，所述壓蓋、晶片密封圈、晶片支撐架、腔底壁依次上下布置并擠壓在一起。

10.根據權利要求8所述的電極隔離型超聲霧化機構，其特征在于，所述腔側壁的頂部設置有頂部凹槽，所述頂部凹槽呈環形，所述頂部凹槽的外側壁的環形直徑大于所述安裝孔的內徑，所述頂部凹槽的內側壁的環形直徑小于所述安裝孔的內徑，所述壓緊密封圈嵌入到所述頂部凹槽中。