[發明專利]一種用于磁環鍍膜的臥式真空鍍膜機

在審

• 申請號: 202011130545.6
• 申請日: 2020-10-21
• 公開（公告）號: CN112342518A
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發明（設計）人: 渠艷良;李雷
• 申請（專利權）人: 派珂納米科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C16/458
• 代理公司: 蘇州創策知識產權代理有限公司 32322
• 代理人: 范圓圓

1.一種用于磁環鍍膜的臥式真空鍍膜機，其特征在于：包括橫向固定在工作臺上的鍍膜室以及轉動安裝在鍍膜室內的鍍膜腔；所述鍍膜室的側壁上連接有抽真空管，鍍膜室的一端設有進氣口，鍍膜室的另一端安裝有可拆卸的外端蓋；所述外端蓋上安裝有用于驅動所述鍍膜腔旋轉鍍膜的旋轉電機；

所述鍍膜腔內插接安裝有多個可拆卸的物料桿，鍍膜腔靠近所述進氣口的一端設有對應的進氣孔，鍍膜腔的另一端安裝有可拆卸的內端蓋；所述內端蓋靠近所述外端蓋的一側固定有轉動軸；所述內端蓋和所述外端蓋閉合時，所述旋轉電機的輸出軸與所述轉動軸接合。

2.根據權利要求1所述的一種用于磁環鍍膜的臥式真空鍍膜機，其特征在于：所述外端蓋上固定有磁流體密封件，所述磁流體密封件的一端通過傳動齒輪與所述旋轉電機的輸出軸固定連接，磁流體密封件的另一端則通過花鍵與所述轉動軸插接配合。

3.根據權利要求1所述的一種用于磁環鍍膜的臥式真空鍍膜機，其特征在于：所述鍍膜腔的兩端設有用于支撐鍍膜腔的凸邊，所述凸邊的外徑與所述鍍膜室的內徑相匹配；所述鍍膜室的內壁上設有與所述凸邊卡合的圓形滑軌。

4.根據權利要求3所述的一種用于磁環鍍膜的臥式真空鍍膜機，其特征在于：所述鍍膜室內壁的底部安裝有多個支撐滾珠，所述支撐滾珠與所述鍍膜腔的外側壁抵接。

5.根據權利要求1所述的一種用于磁環鍍膜的臥式真空鍍膜機，其特征在于：所述外端蓋通過鎖緊卡扣與所述鍍膜室可拆卸連接；所述內端蓋通過螺栓與所述鍍膜腔可拆卸連接。

6.根據權利要求1所述的一種用于磁環鍍膜的臥式真空鍍膜機，其特征在于：所述物料桿上設有用于防粘連的螺紋凸起。

7.根據權利要求1所述的一種用于磁環鍍膜的臥式真空鍍膜機，其特征在于：所述鍍膜室的側壁上連接有用于測量真空度的真空規管。