[發明專利]一種中性灰色可鋼化雙銀Low-E鍍膜玻璃有效
| 申請號: | 202011127807.3 | 申請日: | 2020-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN112159116B | 公開(公告)日: | 2022-09-30 |
| 發明(設計)人: | 阮澤云;趙曉非;劉志健 | 申請(專利權)人: | 福萊特玻璃集團股份有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/36 | 分類號: | C03C17/36 |
| 代理公司: | 浙江英普律師事務所 33238 | 代理人: | 王曉崗 |
| 地址: | 314000 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 中性 灰色 可鋼化雙銀 low 鍍膜 玻璃 | ||
1.一種中性灰色可鋼化雙銀Low-E鍍膜玻璃,其特征在于,其包括玻璃基片層和鍍膜層,其特征在于在玻璃基片(15) 的面上采用真空磁控濺射方法依次鍍有十四個膜層,其中第一膜層為ZTO膜層(1),第二膜層為AZO膜層(2),第三膜層為Ti膜層(3),第四膜層為Ag膜層(4),第五膜層為Ti膜層(5),第六膜層為AZO膜層(6),第七膜層為ZTO膜層(7),第八膜層為AZO膜層(8),第九膜層為Ti膜層(9),第十膜層為Ag層(10),第十一膜層Ti膜層(11),第十二膜層為AZO膜層(12),第十三膜層為ZTO膜層(13),第十四膜層為ZrO2膜層(14);
其中第一膜層的膜層厚度為25-35nm,第二膜層的膜層厚度為5-8nm,第三膜層的膜層厚度為0.5-2nm,第四膜層的膜層厚度為7-10nm,第五膜層的膜層厚度0.5-2nm,第六膜層的膜層厚度為5-8nm,第七膜層的膜層厚度為65-75nm,第八膜層的膜層厚度為5-8nm,第九膜層的膜層厚度為0.5-2nm,第十膜層的膜層厚度為8-12nm,第十一膜層的膜層厚度為0.5-2nm,第十二膜層的膜層厚度為5-8nm,第十三膜層的膜層厚度為25-35nm,第十四膜層的膜層厚度1~5nm;
所述的ZTO膜層是采用52%ZnO、48%SnO2的氧化鋅錫作為靶材進行磁控濺射而形成的;
所述的中性灰色可鋼化雙銀Low-E鍍膜玻璃經過鋼化熱處理后,配置為6mm中性灰色鋼化雙銀Low-E玻璃+12A+6mm普通鋼化白玻的中空玻璃的主要參數:可見光透過率T:40%≤T≤75%,可見光透過顏色at*、bt*:-2≤at*≤1;-2≤bt*≤1,可見光玻璃面反射率Rout:8%≤Rout≤20%,可見光玻璃面顏色aout*、bout*:-1≤aout*≤0;-2≤bout*≤-4,可見光膜面反射Rin:Rin≤10%,可見光膜面顏色ain*、bin*:-5≤ain*≤3,bin*不限,最終使其透過和室外反射的顏色都保持中性灰顏色,傳熱系數U值和遮陽系數Sc值:U≤1.7,Sc≤0.45。
2.根據權利要求1所述的一種中性灰色可鋼化雙銀Low-E鍍膜玻璃,其特征在于,所述玻璃基片(15)為浮法玻璃。
3.根據權利要求1所述的一種中性灰色可鋼化雙銀Low-E鍍膜玻璃,其特征在于,所述的AZO膜層是采用鋁摻雜的氧化鋅作為靶材進行磁控濺射而形成的。
4.根據權利要求1所述的一種中性灰色可鋼化雙銀Low-E鍍膜玻璃,其特征在于,所述的Ti膜層是采用鈦作為靶材并進行磁控濺射而形成的。
5.根據權利要求1所述的一種中性灰色可鋼化雙銀Low-E鍍膜玻璃,其特征在于,所述的ZrO2膜層是采用氧化鋯作為靶材并進行磁控濺射方法而形成的。
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