[發明專利]顯示基板及其制備方法、顯示面板、顯示裝置

在審

• 申請號: 202011126836.8
• 申請日: 2020-10-20
• 公開（公告）號: CN112259690A
• 公開（公告）日: 2021-01-22
• 發明（設計）人: 祁一歌
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: H01L51/50
• 分類號: H01L51/50;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京博思佳知識產權代理有限公司 11415
• 代理人: 張玲玲

1.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括：

提供襯底；

在所述襯底上形成陽極層及位于所述陽極層上的空穴注入層，所述陽極層包括多個間隔排布的陽極塊，所述空穴注入層包括位于每一所述陽極塊上的空穴注入部，相鄰所述空穴注入部間隔設置；

形成位于所述空穴注入層上的像素限定層，所述像素限定層設有與多個空穴注入部一一對應的多個像素開口，所述像素開口暴露對應的空穴注入部；

形成有機發光材料層，所述有機發光材料層至少部分位于所述像素開口內；

形成陰極層，所述陰極層覆蓋所述有機發光材料背離所述襯底的一側。

2.根據權利要求1所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述空穴注入部的材料為金屬氧化物；

所述在所述襯底上形成陽極層及位于所述陽極層上的空穴注入層，包括：

在所述襯底上形成陽極材料薄膜及位于所述陽極材料薄膜上的金屬氧化物薄膜，所述陽極材料薄膜及所述金屬氧化物薄膜在所述襯底上的正投影分別覆蓋所述襯底；

同時對所述陽極材料薄膜及所述金屬氧化物薄膜進行刻蝕，得到多個陽極塊及位于每一所述陽極塊上的空穴注入部。

3.根據權利要求2所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述同時對所述陽極材料薄膜及所述金屬氧化物薄膜進行刻蝕，包括：

采用蝕刻液同時對所述陽極材料薄膜及所述金屬氧化物薄膜進行刻蝕；所述蝕刻液包括硝酸與磷酸。

4.根據權利要求2所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述在所述襯底上形成陽極材料薄膜及位于所述陽極材料薄膜上的金屬氧化物薄膜，包括：

采用磁控濺射工藝在所述襯底上依次形成陽極材料薄膜及金屬氧化物薄膜。

5.根據權利要求2所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述空穴注入部的材料包括五氧化二鈮、氧化鎳、氧化鈦及氧化鉬中的至少一種。

6.根據權利要求1所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述空穴注入部的厚度范圍為

7.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板包括：

襯底；

位于所述襯底上的陽極層，所述陽極層包括多個間隔排布的陽極塊；

位于所述陽極層上的空穴注入層，所述空穴注入層包括位于每一所述陽極塊上的空穴注入部，相鄰所述空穴注入部間隔設置；

位于所述空穴注入部上的像素限定層，所述像素限定層設有與空穴注入部一一對應的多個像素開口，所述像素開口暴露對應的空穴注入部；

至少部分位于所述像素開口內的有機發光材料層；

陰極層，覆蓋所述有機發光材料層背離所述襯底的一側。

8.根據權利要求7所述的顯示基板，其特征在于，所述空穴注入部的材料為金屬氧化物；

所述空穴注入部的材料包括五氧化二鈮、氧化鎳、氧化鈦及氧化鉬中的至少一種。

9.根據權利要求7所述的顯示基板，其特征在于，所述空穴注入部的厚度范圍為

10.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括權利要求7至9任一項所述的顯示基板。

11.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括權利要求10所述的顯示面板。