[發明專利]一種電子束輻照深度處理制藥廢水中難降解有機物的方法

在審

• 申請號: 202011125265.6
• 申請日: 2020-10-20
• 公開（公告）號: CN112357999A
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發明（設計）人: 崔碩垚;冀東;宋旺旺;王興華;熊強
• 申請（專利權）人: 中核第四研究設計工程有限公司;中核華夏環境工程技術有限公司
• 主分類號: C02F1/30
• 分類號: C02F1/30;C02F101/30
• 代理公司: 北京聯瑞聯豐知識產權代理事務所(普通合伙) 11411
• 代理人: 張學府

1.一種電子束輻照深度處理制藥廢水中難降解有機物的方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1將制藥廠排出的廢水暫存；

步驟2過濾明顯固態雜質；

步驟3安裝調試電子束輻照處理設備，所述電子束輻照處理設備包括輻照窗和位于所述輻照窗內的電子束發射裝置；

步驟4打開電子加速器并調試電子束能量值，調試內容包括：電子束能量值、束流強度、輻照劑量范圍和廢水流速，并讓廢水從電子束輻照處理設備下勻速通過；

步驟5將經輻照處理后的廢水靜置沉淀，并利用檢測設備檢測COD濃度；

步驟6檢測沉淀處理后的廢水中COD濃度與排放標準比較，如果達標，直接達標排放，如果不達標，重復步驟4若干次，直至廢水中COD濃度達到標排放標準。

2.根據權利要求1所述的電子束輻照深度處理制藥廢水中難降解有機物的方法，其特征在于，步驟3中，輻照采用的電子束能量為2MeV，束流強度為20mA，輻照劑量范圍為0～500kGy。

3.根據權利要求2所述的電子束輻照深度處理制藥廢水中難降解有機物的方法，其特征在于，步驟5將經輻照處理后的廢水靜置沉淀的時間為3-5天。

4.根據權利要求1所述的電子束輻照深度處理制藥廢水中難降解有機物的方法，其特征在于，步驟1中，所述容器為廢水循環裝置，在噴水時，根據輻照窗寬度，利用廢水循環裝置調整水流寬度與輻照窗寬度一致。

5.根據權利要求1所述的電子束輻照深度處理制藥廢水中難降解有機物的方法，其特征在于，步驟3中，將接受不同輻照劑量的廢水水樣經一定時間靜置沉淀，取上清液進行COD濃度測定，與未處理廢水進行對比，計算COD去除率；并與該廠污水處理站的排放標準進行對比，判斷是否達到達標排放要求。

6.根據權利要求2所述的電子束輻照深度處理制藥廢水中難降解有機物的方法，其特征在于，如果連續兩次檢測結果仍然不符合排放標準，降低步驟6中的噴水速度和水膜厚度，并加大輻照強度。