[發明專利]光學薄膜的制備方法及光學薄膜、顯示裝置在審
| 申請號： | 202011124978.0 | 申請日： | 2020-10-20 |
| 公開（公告）號： | CN112321886A | 公開（公告）日： | 2021-02-05 |
| 發明（設計）人： | 吳永偉 | 申請（專利權）人： | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | C08J9/28 | 分類號： | C08J9/28;C08J7/02;C08J5/18;G02B1/04;C08F283/06;C08F220/30;C08F220/56;C08F220/18;C08L51/08 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人： | 何輝 |
| 地址： | 518132 廣東省深*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光學薄膜 制備 方法 顯示裝置 | ||
1.一種光學薄膜的制備方法，其特征在于，所述方法包括：
S10、采用復合溶液制備第一薄膜；
S20、將所述第一薄膜浸入第一溶劑，以得到凝膠薄膜；以及
S30、對所述凝膠薄膜進行干燥處理，以得到所述光學薄膜。
2.根據權利要求1所述的光學薄膜的制備方法，其特征在于，所述步驟S10中，所述復合溶液包括量子點、單體、預聚物、引發劑以及第二溶劑。
3.根據權利要求2所述的光學薄膜的制備方法，其特征在于，所述量子點占所述復合溶液的質量含量為10％至40％，所述單體占所述復合溶液的質量含量為5％至30％，所述預聚物占所述復合溶液的質量含量為5％至20％，所述引發劑占所述復合溶液的質量含量為0.1％至5％，所述第二溶劑占所述復合溶液的質量含量為5％至20％。
4.根據權利要求2所述的光學薄膜的制備方法，其特征在于，所述單體包括2-苯氧基乙基丙烯酸酯、丙烯酰胺、2-苯氧基乙基甲基丙烯酸酯或丙烯酸芐酯，所述預聚物包括聚乙二醇丙烯酸酯，所述引發劑包括偶氮二異庚腈或偶氮二異丁腈，所述第二溶劑包括烷烴溶劑或芳香烴溶劑。
5.根據權利要求1所述的光學薄膜的制備方法，其特征在于，所述步驟S10中，采用所述復合溶液經濕法工藝得到所述第一薄膜。
6.根據權利要求1所述的光學薄膜的制備方法，其特征在于，所述步驟S20中，所述第一溶劑包括水/醇溶劑。
7.根據權利要求1所述的光學薄膜的制備方法，其特征在于，所述步驟S30中，對所述凝膠薄膜進行干燥處理包括抽真空冷凍干燥處理。
8.根據權利要求7所述的光學薄膜的制備方法，其特征在于，所述抽真空冷凍干燥處理的溫度介于-30℃至-80℃之間。
9.一種光學薄膜，其特征在于，所述光學薄膜由權利要求1至8任一項所述的光學薄膜的制備方法制得。
10.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括顯示模組以及如權利要求9所述的光學薄膜。
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