[發(fā)明專利]一種核輻射場(chǎng)探頭、探測(cè)器和探測(cè)系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011124198.6
• 申請(qǐng)日: 2020-10-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112285758A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-01-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐守龍;韓永超;鄒樹(shù)梁;吳其反;徐玲;鄧騫;趙芳;楊懷清
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南華大學(xué)
• 主分類號(hào): G01T1/169
• 分類號(hào): G01T1/169;G01T1/24
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 劉翠香

1.一種核輻射場(chǎng)探頭，其特征在于，包括至少三個(gè)具有預(yù)設(shè)夾角的探頭單元，每個(gè)所述探頭單元包括面向核輻射場(chǎng)的第一有源像素傳感器，所述第一有源像素傳感器的后方依次排列有第一金屬擋板、高壓像素傳感器、第二金屬擋板、表面覆蓋有轉(zhuǎn)換層的第二有源像素傳感器和數(shù)據(jù)處理部件，所述第一有源像素傳感器、所述高壓像素傳感器和所述第二有源像素傳感器均設(shè)置于與所述數(shù)據(jù)處理部件連接的PCB電路板上，所述數(shù)據(jù)處理部件用于根據(jù)各個(gè)像素傳感器檢測(cè)的輻射場(chǎng)數(shù)據(jù)得到橫向輻射場(chǎng)信息并定位放射源；

其中，所述第一有源像素傳感器用于探測(cè)正向區(qū)域的整個(gè)輻射場(chǎng)R1，所述輻射場(chǎng)R1的平均輻射場(chǎng)信息為Rad1，所述高壓像素傳感器用于探測(cè)正向區(qū)域輻射場(chǎng)R2，所述輻射場(chǎng)R2的平均輻射場(chǎng)信息為Rad2，所述第二有源像素傳感器用于探測(cè)正向區(qū)域輻射場(chǎng)R3，所述輻射場(chǎng)R3的平均輻射場(chǎng)信息為Rad3；所述第一有源像素傳感器獲取的數(shù)據(jù)Data?1反映R1的輻射場(chǎng)信息，射線經(jīng)過(guò)第一金屬擋板屏蔽后，一部分射線被吸收屏蔽，另一部分射線發(fā)生散射或直接穿透第一金屬擋板，形成平均輻射場(chǎng)信息Rad2，所述高壓像素傳感器獲取的數(shù)據(jù)Data?2反映R2的輻射場(chǎng)信息，第一金屬擋板出射的射線在經(jīng)過(guò)第二金屬擋板后，一部分射線被吸收屏蔽，另一部分射線發(fā)生散射或直接穿透第二金屬擋板形成輻射場(chǎng)R3，形成輻射場(chǎng)R3的射線經(jīng)轉(zhuǎn)換層，射線轉(zhuǎn)換成可被第二有源像素傳感器探測(cè)的可見(jiàn)光，形成信號(hào)Data3，反映R3的輻射場(chǎng)信息，通過(guò)反演算法處理，由Data?1、Data2和Data?3得到徑向輻射場(chǎng)信息。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的核輻射場(chǎng)探頭，其特征在于，所述第一有源像素傳感器的表面還設(shè)置有輕質(zhì)材料擋板。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的核輻射場(chǎng)探頭，其特征在于，還包括用于將所述探頭調(diào)整朝向的準(zhǔn)直部件。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的核輻射場(chǎng)探頭，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理部件的表面覆蓋有屏蔽材料。

5.一種核輻射場(chǎng)探測(cè)器，其特征在于，包括至少2個(gè)探頭組，每個(gè)所述探頭組中包括3個(gè)如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的核輻射場(chǎng)探頭。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的核輻射場(chǎng)探測(cè)器，其特征在于，所述探頭組的數(shù)量為4組。

7.一種核輻射場(chǎng)探測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，包括設(shè)置于核輻射場(chǎng)周?chē)亩鄠€(gè)如權(quán)利要求5或6所述的核輻射場(chǎng)探測(cè)器。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的核輻射場(chǎng)探測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，所述核輻射場(chǎng)周?chē)拿總€(gè)方向上至少設(shè)置一個(gè)所述核輻射場(chǎng)探測(cè)器。