[發明專利]觸控面板的透明導電電極在審
| 申請號: | 202011123685.0 | 申請日: | 2020-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN114385040A | 公開(公告)日: | 2022-04-22 |
| 發明(設計)人: | 莊志成;王雅萍;劉濤 | 申請(專利權)人: | 祥達光學(廈門)有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/044 | 分類號: | G06F3/044;G06F3/041 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 王玉雙;張燕華 |
| 地址: | 361000 福建省廈門市火炬*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 面板 透明 導電 電極 | ||
本申請公開一種觸控面板的透明導電電極,其包括第一電極圖案。第一電極圖案的邊緣具有相互平行且延伸的第一外蝕刻線及第二外蝕刻線。兩個相鄰的第一電極圖案之間包括多條第一內蝕刻線。第一外蝕刻線及第二外蝕刻線之間具有第一間距。第二外蝕刻線與相鄰且平行的第一內蝕刻線之間具有第二間距。第二間距大于或等于1.5倍的第一間距。且第二間距小于或等于15倍的第一間距。第一外蝕刻線及第二外蝕刻線之間的間距小于任二條第一內蝕刻線之間的間距。
技術領域
本申請涉及一種觸控面板的透明導電電極,特別是涉及一種相鄰電極之間具有蝕刻圖案的觸控面板的透明導電電極。
背景技術
首先,觸控面板廣泛用于電視機、手機、移動信息終端及其它光學顯示設備所使用的圖像顯示面板中。觸控面板分為電阻式及電容式等兩種較為常見的類型。
觸控面板的基本結構是在一層基板的上下兩側或同一側布置不同方向的透明導電電極。透明導電電極的形成是利用例如激光蝕刻的方式形成在一層透明導電材料,例如金屬網格、氧化銦或是納米銀在線進行蝕刻而形成蝕刻線,即溝槽,并在溝槽內填充透明的絕緣材料。通過蝕刻線圖案的設計形成透明導電電極的輪廓,并且透過蝕刻線作為區隔相鄰的透明導電電極之間的絕緣線。
在透明導電電極的制造過程中,通常需同時滿足高導電率與低可視性兩項條件。因為當導電率高時,才能夠產生足夠靈敏的互電容或自電容的感應,也才能夠使觸控感應器具有足夠的靈敏度。此外,透明導電電極的邊緣輪廓的可視性亦須夠低(或者可說透明導電電極的整體透明度夠高),才不會使得肉眼可見透明導電電極邊緣的蝕刻線痕跡,降低屏幕整體的視覺效果。
然而,導電度與可視性具有一定關聯性。當為了提高導電度(即降低電阻)的目的而提高導電物質的含量(濃度、裝載量)或涂層厚度時,需要對透明導電電極之間的蝕刻線(溝槽)加寬加深,以避免相鄰透明導電電極的導電物質相接觸而造成短路。然而,這會使得蝕刻線,即溝槽的痕跡更為明顯(也就是透明導電電極的輪廓變得明顯)而更容易為肉眼所見。而若為了使肉眼更不可視,則往往需降低導電物質的含量(濃度、裝載量)或涂層厚度,而此時又會使得電阻過高,無法達成足夠的觸控感應功能。
上述問題在大尺寸或超大尺寸產品上,更為明顯。因為相較于中小尺寸產品,大尺寸或超大尺寸產品的面積與長度都更大,相對地透明導電電極的長度也會更長,也因此電極電阻常常會更高,因此要同時顧及導電率與可視性低,就更加不容易。
故,本申請所欲解決的問題為,如何才能通過蝕刻線的安排與設計,在取得好的可視性(即肉眼較不可視)的同時,又能夠兼顧透明電極的導電度。
發明內容
本申請所要解決的技術問題在于,針對現有技術的不足提供一種觸控面板的透明導電電極,其包括多個第一電極圖案。每一第一電極圖案的邊緣具有相互平行且延伸的一第一外蝕刻線及一第二外蝕刻線。兩個相鄰的第一電極圖案間包括多條第一內蝕刻線。第一外蝕刻線及第二外蝕刻線之間具有一第一間距,第二外蝕刻線與相鄰且平行的第一內蝕刻線之間具有一第二間距。第二間距大于或等于1.5倍的第一間距,且第二間距小于或等于15倍的第一間距。
更進一步地,第一間距介于0.2至0.6毫米之間。
更進一步地,第二間距介于0.3至3.0毫米之間。
更進一步地,第一外蝕刻線、第二外蝕刻線及第一內蝕刻線的線寬均介于25微米至65微米之間。
更進一步地,多條第一內蝕刻線相互垂直交錯以形成網狀結構。
更進一步地,多條第一內蝕刻線以直向及橫向的方式相互垂直交錯,以形成網狀結構。
更進一步地,多條第一內蝕刻線與第一外蝕刻線及第二外蝕刻線相互平行以形成網狀結構。
更進一步地,多條第一內蝕刻線的一部分與第一外蝕刻線及第二外蝕刻線相互平行且多條第一內蝕刻線的另一部分相互垂直交錯,以形成網狀結構。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于祥達光學(廈門)有限公司,未經祥達光學(廈門)有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011123685.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:鹽穴腔體的評價方法、裝置、計算機設備及存儲介質
- 下一篇:晶圓清洗裝置及方法





