[發明專利]轉印膜及其用途

在審

• 申請號: 202011123592.8
• 申請日: 2020-10-20
• 公開（公告）號: CN114379274A
• 公開（公告）日: 2022-04-22
• 發明（設計）人: 林明輝
• 申請（專利權）人: 合泰材料科技股份有限公司
• 主分類號: B44C1/165
• 分類號: B44C1/165
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 韓蕾;姚亮

本發明提供一種轉印膜及其用途。該轉印膜包括一基材及一高光層，所述基材具有一接合面，所述高光層具有相對的一鏡面及一貼合面，且所述高光層的鏡面與所述基材的接合面直接接觸，其中，所述基材的接合面的算術平均粗糙度小于1.5微米，所述基材的材料包含聚乙烯系組合物，且所述聚乙烯系組合物具有羥基，所述高光層的材料包含聚甲基丙烯酸甲酯。本發明還提供了一種轉印膜的用途，其包括將上述轉印膜予于一目標物上。利用本發明的轉印膜轉印至目標物上，能順利修飾目標物的表面，使目標物的整體外觀呈現鏡面反射的視覺效果，進而提升目標物整體外觀的質感、細致度及價值。

技術領域

本發明有關于一種轉印膜，尤其是能產生具有鏡面反射效果的轉印膜；本發明另有關于一種轉印膜的用途，尤其是可應用于多種不同材質的目標物的用途。

背景技術

隨著生活水平日益提升，人們不僅追求產品的內在質量，對于產品外觀亦更為講究，以展現個人品味及獨特性。其中，為適當展現產質量感，通過鍍膜來提升產品光澤度或亮度為常見作法，并催生鏡面裝飾技術的發展。

現行鏡面裝飾技術包含水電鍍、真空電鍍、水轉印和噴涂。然而，水電鍍將產生大量的金屬廢液，而易衍生環保問題；真空電鍍的設備相對昂貴，且工藝復雜，成本較高；水轉印易有薄膜破裂及大量廢水污染的問題；噴涂則應用限制多，除目標物本身需具備高度的平整性才能使噴涂粒子堆棧后展現鏡面效果外，并需通過在目標物上噴涂多層涂料來提升平整度始能展現鏡面反射效果，故利用噴涂實現鏡面裝飾的效果亦有成本較高的問題。

基于以往水電鍍、真空電鍍、水轉印和噴涂所存在的缺點，現有技術轉而開發一種轉印膜，其轉印膜由下至上依序包含基材、仿鏡面離型層和高光層，通過在基材與高光層之間設置仿鏡面離型層的技術手段，確保使用者將轉印膜施予在待轉印的目標物后，高光層能貼附于目標物的表面，并順利使高光層從仿鏡面離型層和基材分離，借此將高光層轉印于目標物的表面，以期能展現鏡面反射效果。

然而，現有技術通過此轉印膜試圖裝飾目標物的表面時卻發現，設置仿鏡面離型層雖有助于高光層自基材上脫落并且轉印至目標物的表面，但仿鏡面離型層具有一定的厚度，其在加熱延伸、加壓成型時不易服貼至裝飾目標物的表面，且無可避免地會產生波紋或橘皮，上述因素皆導致轉印在目標物上的仿鏡面離型層與高光層無法展現原先預期的鏡面反射效果，故實有改進的必要。

發明內容

為克服現有技術的缺點，本發明的目的在于提供一種轉印膜及其用途，其能在省略采用仿鏡面離型層，使轉印膜轉印至目標物的表面后順利賦予被轉印的目標物具備鏡面反射的效果。

為達到上述目的，本發明提供一種轉印膜，包括：一基材及設置于該基材上的一高光層，所述基材具有一接合面，所述高光層具有相對的一鏡面及一貼合面，所述高光層的鏡面與所述基材的接合面直接接觸，其中所述基材的接合面的算術平均粗糙度小于1.5微米，所述基材的材料包含聚乙烯系組合物，且所述聚乙烯系組合物具有羥基(hydroxylgroup，－OH group)，所述高光層的材料包含聚甲基丙烯酸甲酯。

通過上述技術手段，本發明的轉印膜能省去以往需設置仿鏡面離型層才能有利于其從基材上分離，并具有預期的鏡面反射效果。換句話說，本發明的高光層在轉印后，不僅能良好地貼附在目標物的表面，亦可賦予目標物具備鏡面反射的效果。

上述高光層的鏡面與貼合面為相同材質，皆具有高光特性，而皆可呈現鏡面反射效果，惟貼合面是用來進一步貼合至一目標物。

于本說明書中，“所述高光層的鏡面系與所述基材的接合面直接接觸”意指在轉印膜中，所述高光層與所述基材之間不額外設置有如現有技術的仿鏡面離型層。