[發明專利]一種光學膜專用高聚合高醇解度PVA系熔體的制備方法

有效

• 申請號: 202011120699.7
• 申請日: 2020-10-19
• 公開（公告）號: CN112341636B
• 公開（公告）日: 2023-02-28
• 發明（設計）人: 楊周璽;尹富強;毛念林;朱靈玲;張環
• 申請（專利權）人: 中國石油化工股份有限公司;中國石化集團重慶川維化工有限公司
• 主分類號: C08J3/05
• 分類號: C08J3/05;C08J3/28;C08J5/18;C08L29/04;C08K5/053;C08K5/526;C08K5/098
• 代理公司: 重慶強大凱創專利代理事務所(普通合伙) 50217
• 代理人: 王攀

1.一種光學膜專用高聚合高醇解度PVA系熔體的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟I：稱料，準確稱取聚乙烯醇100-200份、二級脫鹽水100-400份、增塑劑12-112份、表面活性劑0.01-8份、抗氧劑0.0005-0.2份，聚乙烯醇的聚合度為3500-4000，醇解度為97-100mol％；抗氧劑為四[3-(3,5-二叔丁基-4羥苯基)丙酸]季戊醇酯、三(2,4-二叔丁基苯基)亞磷酸酯和亞磷酸三(2,4-二叔丁基苯基)酯的組合物；

步驟II：第一溶液的制備，將表面活性劑和抗氧劑加入二級脫鹽水中配制成第一溶液；

步驟III：第二溶液的制備，將增塑劑添加到第一溶液中，混合均勻形成第二溶液；

步驟IV：將剩余原料添加到第二溶液中混合均勻，形成第三溶液；

步驟V：將第三溶液在微波輻射條件下攪拌均勻，加熱形成PVA系熔體；步驟I-步驟V均在惰性氣體的保護下進行。

2.根據權利要求1所述的一種光學膜專用高聚合高醇解度PVA系熔體的制備方法，其特征在于：步驟I中，聚乙烯醇經再醇解、洗滌并脫水制得。

3.根據權利要求2所述的一種光學膜專用高聚合高醇解度PVA系熔體的制備方法，其特征在于：步驟I中，聚乙烯醇的含水量為10-90％。

4.根據權利要求3所述的一種光學膜專用高聚合高醇解度PVA系熔體的制備方法，其特征在于：所述增塑劑為甘油、二甘油、三甘油、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、聚乙二醇、丙二醇、二丙二醇、聚丙二醇、三羥甲基丙烷中的一種或多種。

5.根據權利要求4所述的一種光學膜專用高聚合高醇解度PVA系熔體的制備方法，其特征在于：所述表面活性劑為月桂酸鉀、辛基水楊酸酯、十二烷基苯磺酸酯、聚氧化乙烯油醚、聚氧化乙烯辛基苯醚、聚氧化 乙烯月桂酸、聚氧化乙烯聚氧化丙烯、油酸二乙醇酰胺、聚氧化亞烷基烯丙基苯醚中的一種或多種。

6.根據權利要求5所述的一種光學膜專用高聚合高醇解度PVA系熔體的制備方法，其特征在于：所述惰性氣體為氮氣。