[發明專利]一種干涉增強上轉換成像裝置在審
| 申請號: | 202011119048.6 | 申請日: | 2020-10-19 |
| 公開(公告)號: | CN112255857A | 公開(公告)日: | 2021-01-22 |
| 發明(設計)人: | 汪韜;馬曉燠;楊奇龍;樊志華;賈天豪;游雙慧 | 申請(專利權)人: | 重慶連芯光電技術研究院有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/35 | 分類號: | G02F1/35;G02F1/355 |
| 代理公司: | 重慶智慧之源知識產權代理事務所(普通合伙) 50234 | 代理人: | 高彬 |
| 地址: | 400021 重慶市*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 干涉 增強 轉換 成像 裝置 | ||
1.一種干涉增強上轉換成像裝置,其特征在于,包括分束器,反射鏡,二維圖像上轉換器,參考光上轉換器,相位調制器,第一二向色鏡,光電探測器;
所述分束器,用于將激光器發出的光分為兩束,一束作為信號光照明標準分辨率目標形成二維圖像,另一束作為參考光;
所述反射鏡,用于改變裝置中的光路傳播方向;
所述二維圖像上轉換器,用于實現二維圖像上轉換;
所述參考光上轉換器,用于將參考光上轉換為與信號光波長一致的上轉換參考光,通過外腔增強泵浦光的方式獲得高于50%的轉換效率的上轉換參考光;
所述相位調制器,用于對上轉換信號光上轉換后的二維圖像的相位進行調制;
所述第一二向色鏡,用于將上轉換后的二維圖像和參考光合束和上轉換參考光合束;
所述光電探測器,用于探測干涉增強后的二維上轉換圖像。
2.所述根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述二維圖像上轉換器包括目標掩模、第二二向色鏡、聚焦透鏡、第一非線性晶體、準直透鏡、第一濾波器;
所述目標掩模,用于被所述分束器分束的信號光照射形成二維圖像;
所述第二二向色鏡,用于將攜帶所述二維圖像的信號光和泵浦光合束;
所述聚焦透鏡,用于將所述二維圖像和泵浦光聚焦到所述第一非線性晶體的中心;
所述第一非線性晶體,用于實現二維圖像上轉換的非線性介質;
所述準直透鏡,用于將上轉換后的光束進行準直;
所述第一濾波器,用于濾除上轉換光譜以外的波長。
3.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述參考光上轉換器包括第三二向色鏡、輸入耦合透鏡、諧振腔輸入腔鏡、第二非線性晶體、諧振腔輸出腔鏡、輸出耦合透鏡、第二濾波器;
所述第三二向色鏡,用于將參考光和泵浦光合束;
所述輸入耦合透鏡,用于將合束后的參考光和泵浦光聚焦到所述第二非線性晶體的中心;
所述諧振腔輸入腔鏡,用于將合束后的參考光和泵浦光耦合到諧振腔內;
所述第二非線性晶體,用于提供非線性頻率轉換的工作介質;
所述諧振腔輸出腔鏡,用于輸出上轉換后的和頻光,并與所述諧振腔輸入腔鏡構成所述外腔增強泵浦光的功率;
所述輸出耦合透鏡,用于將輸出的上轉換和頻光進行準直;
所述第二濾波器,用于濾除上轉換后的參考光以外的光譜。
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