[發(fā)明專利]發(fā)光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011116675.4
• 申請日: 2016-05-18
• 公開（公告）號: CN112483911B
• 公開（公告）日: 2023-02-21
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 清田征爾;高鶴一真;岡久英一郎
• 申請（專利權(quán)）人: 日亞化學工業(yè)株式會社
• 主分類號: F21K9/20
• 分類號: F21K9/20;F21K9/69;F21V5/04;F21Y115/30
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 王瑋;閆月

本發(fā)明提供一種發(fā)光裝置，其即使在透鏡陣列從規(guī)定的朝向稍微旋轉(zhuǎn)地被安裝的情況下，光源與透鏡部的位置關(guān)系也難以產(chǎn)生大的偏移，從透鏡陣列射出的光的強度分布不易發(fā)生變化。該發(fā)光裝置具備：基體；矩陣狀地具有多個透鏡部的透鏡陣列；以及被配置于上述基體上的多個半導(dǎo)體激光元件，上述多個半導(dǎo)體激光元件分別射出激光，各激光在上述多個透鏡部的各光射入面具有與行方向上相比列方向上寬度變寬的光束形狀，上述多個透鏡部具有比各個透鏡部的最大外徑和列方向的頂點間距離中的任一個都小的行方向的頂點間距離，并且在行方向和列方向上具有相同的曲率。

本申請為專利申請?zhí)枮?01610330335.9(申請日：2016年05月18日，發(fā)明名稱為“發(fā)光裝置”)的發(fā)明專利申請的分案申請。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及發(fā)光裝置。

背景技術(shù)

公知有通過準直透鏡陣列使從多個光源射出的光準直的光源裝置(參照專利文獻1)。

專利文獻1：日本特開2014-102367號公報。

然而，在上述以往的光源裝置中，構(gòu)成準直透鏡陣列的各透鏡要素根據(jù)射入各透鏡要素的激光的剖面形狀而具有多個曲率。因此，只要準直透鏡陣列從規(guī)定的朝向稍微旋轉(zhuǎn)地被安裝，就有光源與透鏡要素的位置關(guān)系產(chǎn)生大的偏移，從準直透鏡陣列射出的光的強度分布發(fā)生變化的可能。

另外，若激光在透鏡的光射入面中的擴散較大，則只要準直透鏡陣列從規(guī)定的朝向稍微旋轉(zhuǎn)地被安裝，就有光源與透鏡要素的位置關(guān)系產(chǎn)生大的偏移，從準直透鏡陣列射出的光的強度分布發(fā)生變化的可能。

發(fā)明內(nèi)容

上述課題例如能夠通過以下手段解決。一種發(fā)光裝置，其具備：基體、矩陣狀地具有多個透鏡部的透鏡陣列以及被配置于上述基體上的多個半導(dǎo)體激光元件，該發(fā)光裝置的特征在于，上述多個半導(dǎo)體激光元件分別射出激光，各激光在上述多個透鏡部的各光射入面具有與行方向上相比列方向上寬度變寬的光束形狀，上述多個透鏡部具有比各個透鏡部的最大外徑與列方向的頂點間距離中的任一個都小的行方向的頂點間距離，并且在行方向與列方向上具有相同的曲率。

根據(jù)上述發(fā)光裝置，能夠提供如下發(fā)光裝置，其即使在透鏡陣列從規(guī)定的朝向稍微旋轉(zhuǎn)地被安裝的情況下，光源與透鏡部的位置關(guān)系也不易產(chǎn)生大的偏移，從透鏡陣列射出的光的強度分布也不易發(fā)生變化。

附圖說明

圖1A是實施方式1所涉及的發(fā)光裝置的示意俯視圖。

圖1B是圖1A中的A-A剖視圖。

圖1C是圖1A中的B-B剖視圖。

圖1D是圖1A中的C-C剖視圖。

圖2A是基體的示意俯視圖。

圖2B是圖2A中的D-D剖視圖。

圖2C是圖2A中的E-E剖視圖。

圖3A是透鏡陣列的示意俯視圖。

圖3B是圖3A中的F-F剖視圖。

圖3C是圖3A中的G-G剖視圖。

圖3D是圖3A中的H-H剖視圖。

圖4A是被配置于基體上的半導(dǎo)體激光元件的示意俯視圖。

圖4B是圖4A中的I-I剖視圖。

圖4C是圖4A中的J-J剖視圖。

圖4D是將圖4C中用虛線包圍的部分放大表示的圖。

圖5A是密封部件的示意俯視圖。

圖5B是圖5A中的K-K剖視圖。

圖5C是圖5A中的L-L剖視圖。