[發(fā)明專利]一種場效應(yīng)晶體管的建模方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011115348.7 | 申請日: | 2020-10-19 |
| 公開(公告)號: | CN114386347A | 公開(公告)日: | 2022-04-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃安東 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州華太電子技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G06F30/33 | 分類號: | G06F30/33;G06F30/27 |
| 代理公司: | 南京利豐知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 趙世發(fā) |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市工*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 場效應(yīng) 晶體管 建模 方法 | ||
1.一種場效應(yīng)晶體管的建模方法,其特征在于包括:
構(gòu)建場效應(yīng)晶體管小信號本征部分等效電路,該小信號本征部分等效電路的Y參數(shù)為:
其中Yint為本征Y參數(shù),為二端口Y矩陣的每一個元素,i、j=1或2,yg11為的實部,yg12為的實部,gm為跨導(dǎo),gds為輸出導(dǎo)納,ω為角頻率,Cgs為柵源電容,Cgd為柵漏電容,Cds為漏源電容;
由式(I)計算得到Cgs、Cgd、Cds以及由NQS效應(yīng)引起的跨容Cm、跨導(dǎo)gm、輸出導(dǎo)納gds、NQS時延τ,其中:
構(gòu)建場效應(yīng)晶體管的大信號模型,該大信號模型包括柵極電荷源Qg、漏極電荷源Qd、柵極電流源Ig、漏極電流源Id和NQS子電路,所述NQS子電路對應(yīng)于柵極電壓時延電路,并通過對端口電壓進(jìn)行路徑積分,得到非線性電流源、電荷源與端口電壓之間的關(guān)系,即:
其中,Vgs、Vds分別為柵源電壓、源漏電壓。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的建模方法,其特征在于,所述NQS子電路表示為:
Vgs-delay=Vgs×exp(-jwτ)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的建模方法,其特征在于,所述場效應(yīng)晶體管的大信號模型還包括熱子電路,所述熱子電路對應(yīng)于模擬熱擴(kuò)散的R-C并聯(lián)電路。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的建模方法,其特征在于包括:改變環(huán)境溫度,并引入溫度因子α1d,得到電流源、電荷源與溫度的關(guān)系為:
Qg(Tj)=(1-αId(Tj-T0))·Qg(T0)
Qd(Tj)=(1-αId(Tj-T0))·Qd(T0)
Ig(Tj)=(1-αId(Tj-T0))·Ig(T0)
Id(Tj)=(1-αId(Tj-T0))·Id(T0)
其中,T0為初始環(huán)境溫度,Tj為器件溝道溫度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的建模方法,其特征在于還包括:在積分得到非線性電流源、電荷源與端口電壓之間的關(guān)系后,使用查找表的方式儲存下來。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的建模方法,其特征在于還包括:在積分得到非線性電流源、電荷源與端口電壓之間的關(guān)系后,使用神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行訓(xùn)練,得到神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)解析模型。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的建模方法,其特征在于,所述場效應(yīng)晶體管的大信號模型的小信號表現(xiàn)由式(III)決定:
式(19)是通過對式(II)等式兩端的Vgs_delay微分而得。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的建模方法,其特征在于,所述場效應(yīng)晶體管包括MOSFET、LDMOS、VDMOS、MESFET或HEMT。
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