[發(fā)明專利]一種基于納米氧化物薄膜/電解質(zhì)垂直結(jié)構(gòu)的人工突觸電子器件的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011114499.0 | 申請日: | 2020-10-16 |
| 公開(公告)號: | CN112239195A | 公開(公告)日: | 2021-01-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐文濤;郭科鑫;衛(wèi)歡歡;于海洋;龔江東;李仁杰;韓弘;馬明雪 | 申請(專利權(quán))人: | 南開大學(xué) |
| 主分類號: | B81B7/04 | 分類號: | B81B7/04;B81C1/00 |
| 代理公司: | 天津翰林知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 12210 | 代理人: | 趙鳳英 |
| 地址: | 300350 天津*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 納米 氧化物 薄膜 電解質(zhì) 垂直 結(jié)構(gòu) 人工 突觸 電子器件 制備 方法 | ||
1.一種基于納米氧化物薄膜/電解質(zhì)垂直結(jié)構(gòu)的人工突觸電子器件的制備方法,其特征為該方法包括如下步驟:
1)將襯底經(jīng)丙酮和異丙醇(IPA)依次超聲清洗;再用異丙醇熱蒸汽熏蒸襯底表面5秒~3分鐘,然后用N2將其表面吹干;
2)將步驟1)所得襯底用紫外臭氧清洗,然后將前驅(qū)體溶液于所得的硅襯底上旋涂,旋涂速度衛(wèi)1000-6000r·min-1,旋涂時間為10-80s再將其置于加熱板上,80-600℃下退火10-120min,退火后冷卻至室溫,在襯底上獲得氧化物薄膜;每平方厘米襯底旋涂10-500μL分散液;所述的前驅(qū)體溶液是濃度為0.1M-2M的硝酸鎳溶液或濃度為0.1M-2M的TiO2前體溶膠;
3)構(gòu)筑聚合物電解質(zhì)薄膜:
4)在步驟2)中所得獲得的氧化物薄膜上構(gòu)筑聚合物電解質(zhì)薄膜,用移液槍取50-1000μL聚合物電解質(zhì)溶液于步驟2)所得的氧化物薄膜的襯底上,以200-2000r·min-1的轉(zhuǎn)速旋涂5-50s,旋涂結(jié)束后,將涂有聚合物電解質(zhì)溶液的襯底置于加熱板上,在40-300℃下退火5-60min后冷卻至室溫,獲得聚合物電解質(zhì)薄膜,整個旋涂過程在氮氣手套箱中進(jìn)行;
其中,每平方厘米薄膜上旋涂1-500μL聚合物電解質(zhì);聚合物電解質(zhì)溶液的濃度為0.01-1g/mL;
5)蒸鍍電極,利用掩模板,在步驟3)獲得的該聚合物電解質(zhì)薄膜的表面上蒸鍍金屬電極,制備得到基于納米氧化物薄膜/電解質(zhì)垂直結(jié)構(gòu)的人工突觸電子器件;
所述的步驟3)中的聚合物電解質(zhì)溶液為鋰鹽-聚環(huán)氧乙烷(Li-PEO)和鈉鹽-聚環(huán)氧乙烷(Na-PEO)溶液,溶劑為乙腈。
2.如權(quán)利要求1所述的襯底為商業(yè)高摻雜硅,石英玻璃或者氧化銦錫導(dǎo)電玻璃。
3.權(quán)利要求1所述的基于納米氧化物薄膜/電解質(zhì)垂直結(jié)構(gòu)的人工突觸電子器件的制備方法,其特征為所述的硝酸鎳溶液的配置方法為:將六水合硝酸鎳加入到乙二醇中,磁力攪拌后得到硝酸鎳前驅(qū)體溶液;
所述的TiO2前體溶膠的配置方法為:二乙醇胺和鈦酸四丁酯加入到無水乙醇中,攪拌溶解后向溶液中加無水乙醇和超純水,并將混合物進(jìn)一步攪拌1~3h,然后靜置20~30h;得到透明的TiO2前體溶膠;其中,二乙醇胺與鈦酸四丁酯的體積比為1:1~1:4,超純水與無水乙醇的體積比為1:80~90。
4.如權(quán)利要求1所述的基于納米氧化物薄膜/電解質(zhì)垂直結(jié)構(gòu)的人工突觸電子器件的制備方法,其特征為所述的步驟4)中蒸鍍的金屬電極的厚度為80-150nm,所述的金屬電極為金電極或鋁電極。
5.如權(quán)利要求5所述的基于納米氧化物薄膜/電解質(zhì)垂直結(jié)構(gòu)的人工突觸電子器件的制備方法,其特征為所述的金屬電極為陣列分布的圓形。
6.如權(quán)利要求1所述的基于納米氧化物薄膜/電解質(zhì)垂直結(jié)構(gòu)的人工突觸電子器件的制備方法,其特征為步驟3)中聚合物電解質(zhì)溶液的鋰鹽或者鈉鹽的濃度范圍為0.01M–1M。
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