[發明專利]一種應用于玻璃襯底CIGS薄膜太陽電池的低成本制備方法在審
| 申請號: | 202011114209.2 | 申請日: | 2020-10-20 |
| 公開(公告)號: | CN112259639A | 公開(公告)日: | 2021-01-22 |
| 發明(設計)人: | 陳英娟;劉沅東;湯清瓊;卓勝;張寧 | 申請(專利權)人: | 北京圣陽科技發展有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0445;H01L31/032 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 應用于 玻璃 襯底 cigs 薄膜 太陽電池 低成本 制備 方法 | ||
本發明涉及一種玻璃襯底CIGS薄膜太陽電池的低成本制備方法,所述方法包含以下步驟:首先對玻璃襯底進行清洗,沉積背電極Mo層;然后在Mo層上沉積銅銦鎵硒(CIGS)薄膜,沉積時玻璃襯底不加熱;接著將沉積有CIGS薄膜的鍍Mo玻璃在無硒的惰性氣氛中進行退火處理,從而改善CIGS薄膜的結晶性;最后在退火后的CIGS薄膜上依次沉積CdS緩沖層、本征氧化鋅(i?ZnO)窗口層和摻鋁氧化鋅(AZO)透明導電層,形成完整的CIGS薄膜太陽電池器件。本發明所述方法在退火過程中使用普通惰性氣體保護,無需使用難以控制的固態Se蒸氣或者有劇毒的H2Se氣體等含硒氣氛,可大幅降低生產成本,有利于連續化生產,提高生產效率,保障生產安全,并且可獲得高光電轉換效率的CIGS電池器件。
技術領域
本發明屬于銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽電池技術領域,主要涉及一種應用于玻璃襯底CIGS薄膜太陽電池的低成本制備方法。
背景技術
隨著傳統能源的逐漸枯竭以及相應產生的環境問題,發展并利用太陽能等清潔能源已經是大勢所趨。銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽電池具有轉換效率高、原材料消耗量少、無衰減、弱光性能好、溫度系數低等諸多優點,是目前世界上最有發展前景太陽能電池技術之一(“Preparation of homogeneous Cu(InGa)Se2films by selenization of metalprecursors in H2Se atmosphere”,M.Marudachalam et.al,Applied Physics Letters67(1995)3978–3980),但是由于其技術難度較大、生產成本較高,至今仍遲遲得不到大規模推廣和應用。
目前CIGS吸收層的制備方法主要有共蒸法、濺射后硒化兩步法,以及電沉積、絲網印刷等非真空法,這些方法在工藝過程中無一例外的必須要使用含硒(Se)氣氛以獲得符合化學計量比、結晶性良好的CIGS吸收層薄膜(“硒蒸氣硒化法制備CIGS薄膜的影響因子”韓東麟等,《太陽能學報》)。含Se氣氛主要有兩種,一種為固態Se蒸氣,另一種是H2Se氣體。前者為固態Se顆粒加熱升華后的氣體,使用時能耗高、氣場不易均勻化、生產設備復雜、工藝難以控制;后者為有劇毒的特種氣體,價格昂貴,會對生產過程帶來較大的安全隱患,并且增加了設備制造難度和電池生產成本(“A promising sputtering route for one-stepfabrication of chalcopyrite phase Cu(In,Ga)Se2 absorbers without extra Sesupply”,Chia-Hsiang Chen et.al,Solar Energy MaterialsSolar Cells 103(2012)25–29)。如果在CIGS吸收層薄膜制備過程能取消含Se氣氛,則可以有效避免上述問題,設備設計也會變得非常簡單,從而更有利于連續化生產、提高工藝穩定性、降低生產成本,提高生產效率,保障生產安全。
發明內容
本發明的目的在于提供一種應用于玻璃襯底CIGS薄膜太陽電池的低成本制備方法,在制備CIGS吸收層薄膜時不采用難以控制或者是有劇毒的含硒氣氛,而是采用無硒的惰性氣氛進行退火處理,從而可大幅降低生產成本,有利于連續化生產,提高生產效率,保障生產安全,并且可獲得高光電轉換效率的CIGS電池器件。為了達到以上目的,本發明采用的技術方案是:
一種應用于玻璃襯底CIGS薄膜太陽電池的低成本制備方法,其特征在于,所述方法包含以下步驟:
(1)對玻璃襯底進行清洗,去除表面的油漬和污漬;
(2)采用磁控濺射方法沉積背電極Mo層;
(3)采用磁控濺射方法沉積CIGS薄膜;
(4)將CIGS薄膜置于無硒的惰性氣氛中加熱進行退火處理;
(5)采用化學水浴法沉積CdS緩沖層薄膜;
(6)采用磁控濺射方法沉積本征氧化鋅(i-ZnO)窗口層薄膜;
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





