[發明專利]偏樁的處理方法在審
| 申請號： | 202011113588.3 | 申請日： | 2020-10-17 |
| 公開（公告）號： | CN112267473A | 公開（公告）日： | 2021-01-26 |
| 發明（設計）人： | 蘇程祥;許根才;陸雅樓;齊高龍;羅海武;許美珍 | 申請（專利權）人： | 上海凱匯建筑設計有限公司 |
| 主分類號： | E02D17/04 | 分類號： | E02D17/04;E02D5/64 |
| 代理公司： | 佛山市名誠專利商標事務所(普通合伙) 44293 | 代理人： | 盧志文 |
| 地址： | 201419 上海市奉賢區*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 處理 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種偏樁的處理方法，其特征在于：包括以下步驟，
步驟一：偏樁的完整性判斷，利用低應變反射波法將樁分為Ⅰ類樁、Ⅱ類樁和Ⅲ類樁，所述Ⅰ類樁為樁身無缺陷的樁，Ⅱ類樁為樁身基本完整的樁，Ⅲ類樁為樁身不完整的樁；
步驟二：挑選偏位值不大于淤泥質土層厚度的1/20的Ⅰ類樁和Ⅱ類樁；
步驟三：在樁頂處設置厚度不小于400mm的基礎底板，抵制偏樁的水平推力。
2.根據權利要求1所述偏樁的處理方法，其特征在于：遇沉降后澆帶或溫度伸縮后澆帶時，提前封閉后澆帶，令使水平力能夠順利傳遞。
3.根據權利要求1所述偏樁的處理方法，其特征在于：遇沉降后澆帶或溫度伸縮后澆帶時，采用鋼管將后澆帶兩側支撐頂緊，令使水平力能夠順利傳遞。
4.根據權利要求1所述偏樁的處理方法，其特征在于：所述基礎底板設置有上部結構，上部結構對基礎底板的后期產生堆壓作用。
5.根據權利要求1所述偏樁的處理方法，其特征在于：所述Ⅲ類樁、偏位值不大于淤泥質土層厚度的1/20的Ⅰ類樁和Ⅱ類樁均為廢樁。
6.根據權利要求1所述偏樁的處理方法，其特征在于：所述淤泥質土層厚度和非淤泥質土層厚度相加等于樁長。
7.根據權利要求4所述偏樁的處理方法，其特征在于：所述上部結構為框架柱或剪力墻。
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