[發明專利]薄型氣體傳輸裝置

在審

• 申請號: 202011112310.4
• 申請日: 2020-10-16
• 公開（公告）號: CN114382685A
• 公開（公告）日: 2022-04-22
• 發明（設計）人: 莫皓然;高中偉;陳世昌;廖王平;許禹笙;黃啟峰;韓永隆;林宗義;古旸
• 申請（專利權）人: 研能科技股份有限公司
• 主分類號: F04B45/047
• 分類號: F04B45/047;F04B39/12;F04B39/10
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 喻學兵

一種薄型氣體傳輸裝置，包含：底板，具有：第一底表面；第二底表面；容置槽，自第一底表面凹陷形成，設有容置底面；出氣槽，自容置底面凹陷形成，設有出氣通道；定位部，圍繞容置槽；通氣孔，位于定位部，具有進氣端及通氣端，通氣端連通容置槽，通氣孔自通氣端至進氣端呈漸縮；圓臺塞，容設于通氣孔，與通氣孔匹配；進氣管，與通氣孔的進氣端相連通；以及出氣管，與出氣槽的出氣通道相連通；氣體泵，設置于容置槽的容置底面，且封蓋出氣槽；以及頂蓋，固設于定位部并封蓋容置槽。

【技術領域】

本案關于一種薄型氣體傳輸裝置，尤指一種能夠避免氣體回流的 薄型氣體傳輸裝置。

【背景技術】

隨著科技的日新月異，氣體輸送裝置的應用上亦愈來愈多元化， 舉凡工業應用、生醫應用、醫療保健、電子散熱等等，甚至近來熱門的穿戴式 裝置皆可見它的踨影，可見傳統的泵已漸漸有朝向裝置微小化、流量極大化的 趨勢。

目前的薄型氣體傳輸裝置對一氣囊進行充氣后，當充氣完成，薄 型氣體傳輸裝置停止運作后，經常會發生氣體回流的現象，使的氣囊內的氣壓 不足，故如何在薄型氣體傳輸裝置停止時，避免氣體回流為目前需要解決的難 題。

請參閱圖1A及圖1B，圖1A及圖1B為先前技術的薄型氣體傳輸裝 置200，包含一下板201、一氣體泵202及一上板203，下板201具有一容置區2011、 一通孔2012、一鋼珠2013、一進氣端2014及出氣端2015，氣體泵202設置于容 置區2011，鋼珠2013設置于通孔2012，上板203封蓋容置區2011，氣體泵202作 動后，吸取容置區2011內的氣體往出氣端2015移動，此時，容置區2011內呈現 負壓，氣體將通過進氣端2014進入通孔2012，并推動通孔2012內的鋼珠2013上 移，使氣體得以持續傳輸，當氣體泵202停止，于容置區2011的氣體推動鋼珠2013回復至通孔2012內，以封閉通孔2012。

先前技術中通過鋼珠2013來防止氣體回流，但鋼珠2013在通孔 2012內移動時會產生噪音，且鋼珠2013在移動時也會與通孔2012產生摩擦，以 及為了提升鋼珠2013于通孔2012內的氣密性，通孔2012需要另外復雜的前置處 理才得以達到效果，由于現在的薄型氣體傳輸裝置200的微型化，使得通孔2012 的前置處理相當費時費工，此外，鋼珠2013可能因氣體壓力、氣體流向、微型 氣體傳輸裝置傾斜等問題導致無法復位，造成氣體回流，因此，需另行尋找防 止氣體回流的方法。

【發明內容】

本案的主要目的是提供一種具有薄型氣體傳輸裝置，利用錐形的 通氣孔內容設可密合的圓臺塞，來達到禁止氣體回流的效果。

本案的一廣義實施態樣為一種薄型氣體傳輸裝置，包含：一底板， 具有：一第一底表面；一第二底表面，與該第一底表面相對；一容置槽，自該 第一底表面凹陷形成，設有一容置底面；一出氣槽，自該容置底面凹陷形成， 設有一出氣通道；一定位部，自該第一底表面凸出且圍繞該容置槽；一通氣孔， 位于該固定部，具有一進氣端及一通氣端，該通氣端連通該容置槽，其中，該 通氣孔自該通氣端至該進氣端呈漸縮；一圓臺塞，容設于該通氣孔，并與該通 氣孔匹配；一進氣管，與該通氣孔的該進氣端相連通；以及一出氣管，與該出 氣槽的該出氣通道相連通；一氣體泵，設置于該容置槽的該容置底面，且封蓋 該出氣槽；以及一頂蓋，固設于該定位部并封蓋該容置槽。

【附圖說明】

圖1A及圖1B為先前技術的薄型氣體傳輸裝置示意圖。

圖2A為本案薄型氣體傳輸裝置的立體圖。

圖2B為本案薄型氣體傳輸裝置的分解圖。

圖2C為本案薄型氣體傳輸裝置的仰視圖。

圖2D為本案底板的立體圖。

圖3A為本案氣體泵的分解示意圖。

圖3B為本案氣體泵的另一角度分解示意圖。

圖4A為本案氣體泵的剖面示意圖。

圖4B至圖4D為本案氣體泵作動示意圖。