[發(fā)明專利]顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011108961.6 | 申請日: | 2020-10-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112198690A | 公開(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳云飛 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢華星光電技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1333 | 分類號(hào): | G02F1/1333;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570 | 代理人: | 徐世俊 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括陣列基板,所述陣列基板包括顯示區(qū)、冗余區(qū)和綁定區(qū),所述冗余區(qū)設(shè)置在所述顯示區(qū)和所述綁定區(qū)之間;
所述陣列基板包括:
基底;
平坦層,所述平坦層設(shè)置在所述基底上,所述平坦層位于所述冗余區(qū)的部分設(shè)置有延緩結(jié)構(gòu);以及
配向?qū)樱雠湎驅(qū)釉O(shè)置在所述平坦層上,且自所述顯示區(qū)延伸至所述冗余區(qū),所述配向?qū)又辽俑采w所述延緩結(jié)構(gòu)的部分。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述延緩結(jié)構(gòu)包括開設(shè)在所述平坦層上的多個(gè)開孔,所述配向?qū)友由烊胨鲩_孔內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,多個(gè)所述開孔呈行列式排布。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板,其特征在于,相鄰的兩列或兩行所述開孔相錯(cuò)設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求2至4任意一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,自所述顯示區(qū)向所述綁定區(qū)的方向上,所述開孔的密度逐漸遞減。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述延緩結(jié)構(gòu)包括開設(shè)在所述平坦層上的至少一個(gè)凹槽和設(shè)置在至少一個(gè)所述凹槽內(nèi)的多個(gè)凸?fàn)铙w;所述配向?qū)友由烊胨霭疾蹆?nèi),且至少覆蓋部分的所述凸?fàn)铙w。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板,其特征在于,多個(gè)所述凸?fàn)铙w呈行列式排布。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示面板,其特征在于,相鄰的兩列或兩行所述凸?fàn)铙w相錯(cuò)設(shè)置。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的顯示面板,其特征在于,所述凸?fàn)铙w的側(cè)表面為粗糙面。
10.根據(jù)權(quán)利要求6至9任意一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽的數(shù)量為多個(gè),自所述顯示區(qū)向所述綁定區(qū)的方向上,所述凹槽的密度逐漸遞減。
11.根據(jù)權(quán)利要求6至9任意一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,所述凹槽包括第一凹槽和第二凹槽,所述第一凹槽設(shè)置在所述冗余區(qū)靠近所述顯示區(qū)的一側(cè),所述第二凹槽設(shè)置在所述冗余區(qū)靠近所述綁定區(qū)的一側(cè),所述第一凹槽的槽口面積大于所述第二凹槽的槽口面積。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





