[發明專利]一種基于半邊模型的造型方法及系統

在審

• 申請號: 202011108908.6
• 申請日: 2020-10-16
• 公開（公告）號: CN112434356A
• 公開（公告）日: 2021-03-02
• 發明（設計）人: 徐宇楠;江云飛;黃程顥;高慶波
• 申請（專利權）人: 杭州群核信息技術有限公司
• 主分類號: G06F30/13
• 分類號: G06F30/13;G06F30/20;G06T17/00
• 代理公司: 杭州君度專利代理事務所(特殊普通合伙) 33240
• 代理人: 楊天嬌

1.一種基于半邊模型的造型方法，其特征在于，所述基于半邊模型的造型方法，包括：

將需要進行造型的建筑面輪廓投影至基準平面，形成一個閉合區域，以半邊數據結構來表示；

在基準平面上繪制平面圖形，并將繪制的平面圖形轉換為半邊數據結構；

對于平面圖形的各個造型面，根據各個造型面的凸出高度，沿基準平面法向偏移對應凸出高度生成各個造型面對應的3D頂面；

對于平面圖形的每一條邊，根據所述邊的兩條半邊分別隸屬于的造型面，在所隸屬于的造型面對應的3D頂面內生成對應的3D邊，在存在高度差的兩條3D邊之間，依據所述邊的半邊以及對應的邊類型生成一個立面；

對于平面圖形的每個點，根據所有與之相連的邊對應的半邊所在造型面的凸起高度，沿基準平面法向偏移對應凸起高度形成對應的3D點。

2.如權利要求1所述的基于半邊模型的造型方法，其特征在于，所述根據各個造型面的凸出高度，沿基準平面法向偏移對應凸出高度生成各個造型面對應的3D頂面，包括：

根據各個造型面的凸出高度，將基準平面沿法向偏移對應凸出高度得到偏移后的平面；

將各個造型面遷移到偏移后的平面上，生成各個造型面對應的3D頂面。

3.如權利要求1所述的基于半邊模型的造型方法，其特征在于，所述根據所有與之相連的邊對應的半邊所在造型面的凸起高度，沿基準平面法向偏移對應凸起高度形成對應的3D點，包括：

根據所有與之相連的邊對應的半邊所在造型面的凸起高度，將基準平面沿法向偏移對應凸出高度得到偏移后的平面；

將各個點遷移到偏移后的平面上，生成各個點對應的3D點。

4.如權利要求1所述的基于半邊模型的造型方法，其特征在于，所述各個造型面的凸出高度為設計凸出高度，所述3D頂面的高度為對應造型面的凸起高度，所述3D邊的高度為其所在3D頂面的高度。

5.一種基于半邊模型的造型系統，其特征在于，所述基于半邊模型的造型系統，包括：

平面繪制功能模塊，用于將需要進行造型的建筑面輪廓投影至基準平面，形成一個閉合區域，以半邊數據結構來表示；在基準平面上繪制平面圖形，并將繪制的平面圖形轉換為半邊數據結構；

造型凸出功能模塊，用于對于平面圖形的各個造型面，根據各個造型面的凸出高度，沿基準平面法向偏移對應凸出高度生成各個造型面對應的3D頂面；對于平面圖形的每一條邊，根據所述邊的兩條半邊分別隸屬于的造型面，在所隸屬于的造型面對應的3D頂面內生成對應的3D邊，在存在高度差的兩條3D邊之間，依據所述邊的半邊以及對應的邊類型生成一個立面；對于平面圖形的每個點，根據所有與之相連的邊對應的半邊所在造型面的凸起高度，沿基準平面法向偏移對應凸起高度形成對應的3D點。

6.如權利要求5所述的基于半邊模型的造型系統，其特征在于，所述造型凸出功能模塊根據各個造型面的凸出高度，沿基準平面法向偏移對應凸出高度生成各個造型面對應的3D頂面，執行如下操作：

根據各個造型面的凸出高度，將基準平面沿法向偏移對應凸出高度得到偏移后的平面；

將各個造型面遷移到偏移后的平面上，生成各個造型面對應的3D頂面。

7.如權利要求5所述的基于半邊模型的造型系統，其特征在于，所述造型凸出功能模塊根據所有與之相連的邊對應的半邊所在造型面的凸起高度，沿基準平面法向偏移對應凸起高度形成對應的3D點，執行如下操作：

根據所有與之相連的邊對應的半邊所在造型面的凸起高度，將基準平面沿法向偏移對應凸出高度得到偏移后的平面；

將各個點遷移到偏移后的平面上，生成各個點對應的3D點。

8.如權利要求5所述的基于半邊模型的造型系統，其特征在于，所述各個造型面的凸出高度為設計凸出高度，所述3D頂面的高度為對應造型面的凸起高度，所述3D邊的高度為其所在3D頂面的高度。