[發明專利]涂抹標本制作裝置及裝置中染色槽的清洗方法

在審

• 申請號: 202011108568.7
• 申請日: 2020-10-16
• 公開（公告）號: CN112676283A
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 生田純也;中西利志;原田優吾;品部誠也
• 申請（專利權）人: 希森美康株式會社
• 主分類號: B08B9/08
• 分類號: B08B9/08;G01N1/30
• 代理公司: 北京市安倫律師事務所 11339
• 代理人: 楊永波

1.一種清洗方法，其是具有染色槽的涂抹標本制作裝置中染色槽的清洗方法，該染色槽能夠收納涂抹有樣本的載玻片，并儲存對所述載玻片上涂抹的樣本進行染色的染色液來進行染色處理，該清洗方法具備以下工序：

接收清洗條件相關信息的工序，

按照接收的清洗條件相關信息執行所述染色槽的清洗作業的工序。

2.根據權利要求1所述的清洗方法，其特征在于：

所述接收清洗條件相關信息的工序包括：顯示接收清洗條件的設定值的變更的接收界面的工序、介由所述接收界面將所述清洗條件的設定值的變更作為所述清洗條件相關信息進行接收的工序。

3.根據權利要求2所述的清洗方法，其特征在于：

所述涂抹標本制作裝置以復數個模式進行作業，

所述復數個模式包括顯示所述接收界面的第1模式和不顯示所述接收界面的第2模式。

4.根據權利要求1～3其中任意一項所述的清洗方法，其特征在于：

所述接收清洗條件相關信息的工序包括：顯示接收第1清洗作業或第2清洗作業的執行指示的操作界面的工序，其中，第1清洗作業以第1清洗條件執行所述染色槽的清洗作業，第2清洗作業以不同于所述第1清洗條件的第2清洗條件執行所述染色槽的清洗作業；介由所述操作界面將所述第1清洗作業及所述第2清洗作業的至少一者的執行指示作為所述清洗條件相關信息進行接收的工序。

5.根據權利要求1～3其中任意一項所述的清洗方法，其特征在于：

所述接收清洗條件相關信息的工序包括：可選擇地顯示復數個清洗條件的工序、將顯示的所述清洗條件的選擇作為所述清洗條件相關信息進行接收的工序。

6.根據權利要求1～3其中任意一項所述的清洗方法，其特征在于：

所述接收清洗條件相關信息的工序包括：獲取涂抹標本制作裝置的狀態相關信息作為所述清洗條件相關信息的工序、基于獲取信息設定清洗條件的工序。

7.根據權利要求1～3其中任意一項所述的清洗方法，其特征在于：

所述接收清洗條件相關信息的工序包括：獲取涂抹標本制作裝置的狀態相關信息作為所述清洗條件相關信息的工序、顯示接收基于獲取信息的清洗條件的設定的推薦界面的工序、介由所述推薦界面將所述清洗條件的設定作為所述清洗條件相關信息進行接收的工序。

8.根據權利要求7所述的清洗方法，其特征在于：

在顯示所述推薦界面的工序中，顯示所述涂抹標本制作裝置的狀態相關信息。

9.根據權利要求6其中任意一項所述的清洗方法，其特征在于：

所述涂抹標本制作裝置的狀態相關信息包括：所述涂抹標本制作裝置的運作計劃相關信息、所述染色槽內液體的排出功能相關信息、所述涂抹標本制作裝置的連續運作時間相關信息、以及已由所述涂抹標本制作裝置染色的涂抹標本玻片的觀察結果相關信息的至少某者。

10.根據權利要求1～3其中任意一項所述的清洗方法，其特征在于：

所述清洗條件包括清洗液的濃度相關條件，清洗液的濃度互不相同。

11.根據權利要求10所述的清洗方法，其特征在于：

執行所述清洗作業的工序包括以與所述清洗條件相應的清洗液的原液與稀釋液的混合比制備清洗液的工序。

12.根據權利要求1～3其中任意一項所述的清洗方法，其特征在于：

所述清洗條件包括清洗時間相關條件。

13.根據權利要求1～3其中任意一項所述的清洗方法，其特征在于：

執行所述清洗作業的工序包括：從所述染色槽排出染色液的工序、向所述染色槽供應清洗液的工序、以及從所述染色槽排出清洗液的工序。