[發明專利]化學清洗排架及清洗方法在審
| 申請號: | 202011106496.2 | 申請日: | 2020-10-16 |
| 公開(公告)號: | CN112139162A | 公開(公告)日: | 2020-12-29 |
| 發明(設計)人: | 杜世青;張元暉;姚向陽;吳志軍;林理恒;楊標標 | 申請(專利權)人: | 福建新大陸環??萍加邢薰?/a> |
| 主分類號: | B08B9/023 | 分類號: | B08B9/023;B08B13/00 |
| 代理公司: | 福州元創專利商標代理有限公司 35100 | 代理人: | 陸帥;蔡學俊 |
| 地址: | 350015 福建省福*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化學 清洗 排架 方法 | ||
本發明涉及一種化學清洗排架及清洗方法,包括架體、由上至下間隔設置的若干清洗組件,所述清洗組件內套裝在紫外線燈管上對紫外線燈管外表面進行清洗,所述清洗組件包括套筒、安裝在套筒兩端的端蓋,套筒內壁對稱設兩個凸環,凸環與套筒外端之間安裝有密封件,密封件與紫外線燈管過盈配合,套筒內壁、兩側的密封件與紫外線燈管支撐架圍城清洗腔,清洗腔內填充有化學清洗劑,本化學清洗排架結構簡單,設計合理,操作方便,性能穩定、密封良好,實現在線對紫外線燈管進行機械加化學清洗,洗效果好。
技術領域
本發明屬于紫外C消毒技術領域,具體涉及一種化學清洗排架及清洗方法。
背景技術
紫外C消毒技術具有高效、廣譜、廉價、長壽、無需添加任何物質,不產生任何二次污染的特點,近幾年來以其獨特的優越性在水處理領域倍受青睞,越來越廣泛地應用于飲用水、工農業、食品、制藥行業生產用水、工業回用水及污水等的滅菌消毒處理。
但是在紫外消毒過程中,紫外燈管外的玻管因浸沒在水中長時間與污水接觸,會在表面形成一層垢狀物質,影響其透光率,而設備玻管的透光率決定消毒效率,設備廠家為保證消毒效率,采取了不同的清洗方式保證玻管透光率。常規的玻管清洗方式或多或少的存在以下技術缺點,造成現有紫外排架玻管清洗的可靠性不高,長期運行透光率下降嚴重等技術不足。
常規在線機械清洗是通過橡膠清洗圈與玻管過盈配合抱緊在玻管上,經氣缸或液壓桿驅動使橡膠清洗圈在玻管上來回運動,通過清洗圈與玻管反復摩擦來達到清洗的目的。此種設計方法在較為干凈的污水中并無不妥且造價較低,但是橡膠圈經過長時間摩擦極易造成磨損,由此與玻管的配合間隙變大而影響清洗效果,若污水中存在易結頑垢的物質將會加劇橡膠圈磨損、大大縮短其更換周期。
在線機械清洗和離線化學清洗,此方式為在線機械清洗的基礎上增加離線化學清洗。因實際污水水質復雜,通常大部分的污水都會在紫外燈管外的玻管上結垢,而通過更換新的橡膠清洗圈往往也無法去除附著在玻管上的頑垢。故通過設備停機并吊出排架,再通過化學藥劑人工清洗玻管。但此方式需要較長時間的停機維護、人工清洗等,其過程耗時繁瑣而很多工程項目并不具備此種維護條件。
在線機械加化學自動清洗,在線機械加化學清洗的具體形式是將清洗劑儲存在清洗腔中同時包裹住玻管表面,通過驅動機構使其在玻管表面緩慢移動,利用化學清洗劑溶解玻管表面的結垢達到清洗的目的。但是結構不理想、密封性較差,清洗腔容易造成清洗劑泄露形成二次污染,且需定期對設備進行添加清洗劑,無形中增加了人工勞動強度,同時影響了設備運行效率。
發明內容
本發明的目的是針對以上不足之處,提供了一種化學清洗排架及清洗方法。
本發明解決技術問題所采用的方案是,一種化學清洗排架,包括架體、由上至下間隔設置的若干清洗組件,所述清洗組件內套裝在紫外線燈管上對紫外線燈管外表面進行清洗,所述清洗組件包括套筒、安裝在套筒兩端的端蓋,所述套筒內壁左右對稱設兩個凸環,凸環與套筒外端之間安裝有密封件,所述密封件為V形密封圈,V形密封圈兩側均設置有密封擋圈,V形密封圈的槽底套設有環形彈簧,V形密封圈的槽定設置有用于支撐V形密封圈端部的環狀支撐架,環狀支撐架抵靠套筒內壁,位于內側的密封擋圈抵靠凸環,位于外側的密封擋圈抵靠端蓋,V形密封圈與紫外線燈管過盈配合,套筒內壁、兩側的密封圈與紫外線燈管支撐架圍城清洗腔,清洗腔內填充有化學清洗劑。
進一步的,所述化學清洗排架安裝在紫外線燈排架上,清洗組件與紫外線燈排架上的紫外線燈管一一對應設置。
進一步的,所述紫外線燈排架上安裝有驅動架體沿紫外線燈管軸向移動的驅動件,所述驅動件為無桿液壓缸,無桿液壓缸的兩端與紫外線燈排架連接固定,無桿液壓缸的活動部與架體連接固定。
進一步的,所述套筒外部上部、下部分別設置有連通清洗腔的進管、出管,清洗組件的進管、出管分別經軟管與相鄰的清洗組件上的出管、進管相連接,位于最下側的清洗組件不設置出管,或者位于最下側的清洗組件的出管上安裝有堵頭。
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