[發(fā)明專利]一種基于位置補償?shù)陌信_工位控制方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011106230.8
• 申請日: 2020-10-14
• 公開（公告）號: CN112259431A
• 公開（公告）日: 2021-01-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉海財;李晨冉
• 申請（專利權(quán)）人: 北京爍科中科信電子裝備有限公司
• 主分類號: H01J37/317
• 分類號: H01J37/317;H01J37/244
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明涉及用于離子注入機的靶臺工位控制方法。本發(fā)明提供了一種基于位置補償?shù)陌信_工位控制方法，該靶臺工位控制方法具有控制精度高、成本低的優(yōu)點。當該靶臺工位控制方法應用于離子注入機時，可精確控制靶臺工位，屬于半導體領(lǐng)域。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種基于位置補償?shù)陌信_工位控制方法，應用在離子注入機。

背景技術(shù)

離子注入是一種為了獲得某種期望的特性而對基體材料進行摻雜的技術(shù)。在源腔體中對某種元素比如硼、磷、砷等原子進行電離，這些粒子表現(xiàn)出一定的電性。引出電極系統(tǒng)將這些帶電粒子從源腔體中引出，形成離子束，根據(jù)工藝需求，，離子束經(jīng)過質(zhì)量分析器進行篩選粒子，篩選后的離子束經(jīng)過加速管，使這些帶電粒子具有一定的速度和能量。具有一定速度和能量的帶電粒子進入靶室，射入靶臺上夾持的工件。

特殊地，本特種離子注入機的靶臺具有多個功能，包括裝載工件、檢測束流強度、束流注入、實驗功能。靶臺的這些功能與靶臺的工位相關(guān)的，靶臺的靶盤用來夾持工件，當工件面向束流時，是注入位。靶臺的靶盤面向靶室腔室門時，是裝載位。靶臺的一側(cè)石墨蓋板面向束流時，是法拉第位，用于檢測束流強度。靶臺另一側(cè)面石墨蓋板面向束流時，是實驗位。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明設(shè)計了一種基于位置補償?shù)陌信_工位控制方法，可精確地控制靶臺工位切換，應用在離子注入機。

本發(fā)明的一種基于位置補償?shù)陌信_工位控制方法，包括工控機、運動控制器、驅(qū)動器、電機、電機編碼器、減速器、同步帶、靶臺。

本發(fā)明具有如下顯著優(yōu)點：

1.應用了位置補償器402，本發(fā)明靶臺工位控制方法精度高。

2.節(jié)省了負載側(cè)位置傳感器，本發(fā)明靶臺工位控制方法成本低。

3.靶臺工位控制方法簡單、可靠。

附圖說明

圖1為應用本發(fā)明的離子注入機系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖

圖2a為根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的靶臺裝載工位圖

圖2b為根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的靶臺實驗工位圖

圖2c為根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的靶臺注入工位圖

圖2d為根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的靶臺法拉第工位圖

圖3為根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的靶臺工位控制結(jié)構(gòu)圖

圖4為根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的靶臺工位控制原理圖

具體實施方式

下面結(jié)合附圖進一步詳細描述本發(fā)明，本發(fā)明的較佳實施例圖示在附圖中。提供實施例是為了使揭示的內(nèi)容更加透徹和完整。但不作為對本發(fā)明的限定。

圖1為應用本發(fā)明的離子注入機系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖，離子源101產(chǎn)生工藝所需的帶電粒子，引出電極102將帶電粒子從源腔體中引出，形成離子束，離子束經(jīng)過質(zhì)量分析器103，篩選出所需粒子，粒子經(jīng)過加速管104進行加速，獲得一定的速度和能量。離子束進入靶室105，射入靶臺107靶盤108上的工件109。工件109的裝載和卸載通過靶室腔室門106。

圖2a為本發(fā)明實施例的靶臺裝載工位圖，靶盤108面向靶室腔室門106，靶室腔室門106打開，工件109通過靶室腔室門106裝載在靶盤108上。

圖2b為本發(fā)明實施例的靶臺實驗工位圖，此時靶臺107的一側(cè)石墨蓋板201面向束流203來向。

圖2c為本發(fā)明實施例的靶臺注入工位圖，此時工件109面向束流203來向。

圖2d為本發(fā)明實施例的靶臺法拉第工位圖，此時石墨蓋板202面向束流203來向。