[發(fā)明專利]一種用于陶瓷球表面拋光的方式在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011104899.3 | 申請日： | 2020-10-15 |
| 公開（公告）號： | CN112192326A | 公開（公告）日： | 2021-01-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王曉東;彭大松;段連威;韓帥帥;宮丹丹 | 申請（專利權(quán)）人： | 中科傳感技術(shù)（青島）研究院 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00;B24B29/04 |
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| 地址： | 266109 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 陶瓷球 表面 拋光 方式 | ||
本發(fā)明公開了一種用于陶瓷球表面拋光的方式，本發(fā)明涉及陶瓷球拋光技術(shù)領(lǐng)域。該用于陶瓷球拋光方式主要是使用α?氧化鋁粉（粗細(xì)兩種規(guī)格）、碳化硅粉、洗潔精、滑石粉、行星式球磨機(jī)配合完成陶瓷球表面拋光。第一步將粗α?氧化鋁粉、碳化硅粉、滑石粉、洗潔精、水及待拋光陶瓷球混合球磨；第二步出球后沖洗；第三步將細(xì)α?氧化鋁粉、碳化硅粉、滑石粉、洗潔精、水及待拋光陶瓷球混合球磨；第四步出球后沖洗，將洗潔精、水及待拋光陶瓷球混合球磨，并重復(fù)二、三次；第五步，烘干。依照此拋光方式可以得到表面光滑度好的陶瓷球，通過SEM圖，可見拋光后陶瓷球表面光滑平整，較拋光前有了大幅改善。且此方式成本低，工藝簡便。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及陶瓷球拋光技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種用于陶瓷球表面拋光的方式。
背景技術(shù)
陶瓷球種類較多，普遍使用的有氧化鋁球、氧化鋯球、碳化硅球、氮化硅球等。以氧化鋯球為例：氧化鋯陶瓷球，在常溫下具有高強(qiáng)度、高韌性、高剛度、耐磨性好、耐高溫、耐腐蝕、不導(dǎo)磁、電絕緣等特性。氧化鋯陶瓷球在600℃時，強(qiáng)度硬度幾乎不變，其密度為6.00g/cm3，熱膨脹率接近金屬熱膨脹率，可與金屬接合使用，適用于軸承，密封件等。高純氧化鋯微珠（TZP Ceramics beads）是最為理想的研磨質(zhì)介，現(xiàn)已廣泛應(yīng)用于非金屬礦、涂料、油墨、油漆、染料、鈦白粉、農(nóng)藥、磁性材料等行業(yè)物料的超細(xì)研磨與分散。
陶瓷球傳統(tǒng)制備工藝為滾制成型法及壓制成型法，陶瓷球燒結(jié)完成后球表面都會有很多缺陷，缺陷的存在會導(dǎo)致使用過程中陶瓷球磨耗較大，陶瓷球表面粉末脫落會導(dǎo)致物料中雜質(zhì)含量增多，影響物料性能，因此需要找到一種方便易行的拋光方式對陶瓷球進(jìn)行拋光處理。
發(fā)明內(nèi)容
（一）解決的技術(shù)問題
針對現(xiàn)有問題，本發(fā)明提供了一種用于陶瓷球表面拋光的方式，解決了陶瓷球燒后表面缺陷較多的問題，通過實驗已證明此拋光方式適用于多種陶瓷球表面拋光，如氧化鋯球、氧化鋁球、氮化硅球等。
（二）技術(shù)方案
為實現(xiàn)以上目的，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案予以實現(xiàn)：一種用于陶瓷球表面拋光的方式，具體包括以下步驟：
步驟一、物料準(zhǔn)備：準(zhǔn)備好行星式球磨機(jī)、聚四氟球磨罐、待拋光陶瓷球、α-氧化鋁粉（粗細(xì)兩種規(guī)格）、碳化硅粉、滑石粉、洗潔精、烘箱；
步驟二、粗拋：將粗α-氧化鋁粉、碳化硅粉、滑石粉、洗潔精、水及待拋光陶瓷球混合加入到聚四氟球磨罐中，陶瓷球體積不超過罐體積2/3，開啟行星式球磨機(jī)，球磨機(jī)轉(zhuǎn)速設(shè)置為200轉(zhuǎn)/min左右，時間設(shè)置為10h左右；
步驟三：出球后沖洗：粗拋完成后將球取出，用水沖洗；
步驟四、細(xì)拋：將細(xì)α-氧化鋁粉、碳化硅粉、滑石粉、洗潔精、水及待拋光陶瓷球混合加入到聚四氟球磨罐中，球磨機(jī)轉(zhuǎn)速設(shè)置為300轉(zhuǎn)/min左右，時間設(shè)置為10h左右；
步驟五、洗球：細(xì)拋完成后用水沖洗陶瓷球，將洗潔精及待拋光陶瓷球混合加入到聚四氟球磨罐中，球磨機(jī)的轉(zhuǎn)速設(shè)置為150轉(zhuǎn)/min左右，時間設(shè)置為1h左右，重復(fù)兩到三次；
步驟六、烘干：將洗后陶瓷球在烘箱內(nèi)烘干，烘干后即可得到拋光完畢陶瓷球。
優(yōu)選的，拋光用α-氧化鋁粉需粗細(xì)兩種規(guī)格，粗粉粒徑一般在5μm左右，細(xì)粉粒徑一般在1μm左右，分別在粗拋與細(xì)拋步驟中使用。
優(yōu)選的，拋光用碳化硅粉粒徑一般在1μm左右，在粗拋與細(xì)拋步驟中均使用。
優(yōu)選的，為保證拋光效果待拋光陶瓷球加入后不能超過球磨罐體積的2/3。
優(yōu)選的，氧化鋁粉及碳化硅粉加入量與陶瓷球的關(guān)系為M陶瓷球：M粉=（500-1000）/1，滑石粉及洗潔精在粗拋、細(xì)拋、洗球三步的加入量一般為待拋光球的1/500。
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