[發明專利]一種大場景的雪景渲染方法、裝置、設備及存儲介質

在審

• 申請號: 202011103832.8
• 申請日: 2020-10-15
• 公開（公告）號: CN112233214A
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 丁偉
• 申請（專利權）人: 洛陽眾智軟件科技股份有限公司
• 主分類號: G06T15/00
• 分類號: G06T15/00;G06T15/50
• 代理公司: 北京細軟智谷知識產權代理有限責任公司 11471
• 代理人: 尚文文

1.一種大場景的雪景渲染方法，其特征在于，包括：

獲取待渲染場景的深度紋理和法線紋理；

根據所述深度紋理和所述法線紋理計算屏幕空間環境光遮蔽量；

利用所述環境光遮蔽量對所述待渲染場景中的積雪進行渲染；

利用GPU粒子系統結合預設粒子移動規則并根據用戶視角移動進行降雪效果渲染；所述預設粒子移動規則為根據實時的粒子偏移坐標控制粒子移動。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據實時的粒子偏移坐標控制粒子移動包括：

根據預設偏移公式計算粒子偏移坐標；其中，vParticalPosition為粒子的偏移坐標，vOffset為預設粒子在預設局部坐標系中的局部位置，fExtent為預設正方體邊長，vCameraGridPosition為用戶視角在預設世界坐標系中的世界位置；其中根據公式vCameraGridPosition＝mod(vEye,extent)計算粒子的世界位置；

根據所述偏移坐標控制粒子移動。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據所述深度紋理和所述法線紋理計算屏幕空間環境光遮蔽量，包括：

根據所述深度紋理和所述法線紋理計算所述待渲染場景內的所有像素點的視圖坐標和視圖法線；

根據所述深度紋理計算采樣半徑；

以設定像素點的所述視圖坐標為圓心、所述采樣半徑為半徑的多個同心圓上選取設定數目個采樣點；

結合所述視圖坐標和所述視圖法線計算所述采樣點對所述設定像素點的環境光遮蔽貢獻值；

將所述環境光遮蔽貢獻值進行加權平均計算得到所述屏幕空間環境光遮蔽量。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據所述深度紋理計算采樣半徑，包括：

根據所述深度紋理進行解析，得到像素深度；

根據所述像素深度進行投影運算，進而得到所述采樣半徑。

5.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述采樣半徑小于預設最大采樣半徑。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

在設定范圍內對所述待渲染場景進行霧景填充；所述設定范圍與降雪范圍無交集。

7.一種大場景的雪景渲染裝置，其特征在于，包括：

紋理獲取模塊，用于獲取待渲染場景的深度紋理和法線紋理；

環境光遮蔽量計算模塊，用于根據所述深度紋理和所述法線紋理計算屏幕空間環境光遮蔽量；

積雪渲染模塊，用于利用所述環境光遮蔽量對所述待渲染場景中的積雪進行渲染；

降雪渲染模塊，用于利用GPU粒子系統結合預設粒子移動規則并根據用戶視角移動進行降雪效果渲染；所述預設粒子移動規則為根據實時的粒子偏移坐標控制粒子移動。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述降雪渲染模塊包括：

偏移坐標計算單元，用于根據預設偏移公式計算粒子偏移坐標；其中，vParticalPosition為粒子的偏移坐標，vOffset為預設粒子在預設局部坐標系中的局部位置，fExtent為預設正方體邊長，vCameraGridPosition為用戶視角在預設世界坐標系中的世界位置；其中根據公式vCameraGridPosition＝mod(vEye,extent)計算粒子的世界位置；

粒子移動單元，用于根據所述偏移坐標控制粒子移動。

9.一種大場景的雪景渲染設備，其特征在于，包括：

處理器，以及與所述處理器相連接的存儲器；

所述存儲器用于存儲計算機程序，所述計算機程序至少用于執行權利要求1-6任一項所述的大場景的雪景渲染方法；

所述處理器用于調用并執行所述存儲器中的所述計算機程序。

10.一種存儲介質，其特征在于，所述存儲介質存儲有計算機程序，所述計算機程序被處理器執行時，實現如權利要求1-6任一項所述的大場景的雪景渲染方法中各個步驟。