[發明專利]一種三氧化鉬納米點抑菌材料的制備方法及其應用

有效

• 申請號: 202011102429.3
• 申請日: 2020-10-15
• 公開（公告）號: CN112209445B
• 公開（公告）日: 2023-03-24
• 發明（設計）人: 許元紅;張艷;牛玉生
• 申請（專利權）人: 青島大學
• 主分類號: C01G39/02
• 分類號: C01G39/02;A61K41/00;A61K49/00;A61P17/02;A61P31/04;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 青島高曉專利事務所(普通合伙) 37104
• 代理人: 賈景然

1.一種三氧化鉬納米點抑菌材料的制備方法，其特征在于，具體工藝步驟如下：

(1)配制質量濃度為0.005g/mL-0.006g/mL的三氯化鉬水溶液，充分攪拌使其分散均勻，放入反應釜中；

(2)將反應釜放到鼓風干燥機中，在200℃下加熱反應10小時；

(3)將反應完的樣品取出，在12000rpm/min下離心9-11分鐘，去除沉淀，收集上清液，再將上清液在12000rpm/min下離心9-11分鐘，去除沉淀，再收集上清液，重復離心、去除沉淀和收集上清液步驟數次，至離心后溶液中無沉淀物出現，則獲得三氧化鉬納米點的無色分散液，完成三氧化鉬納米點抑菌材料的制備；

所述三氧化鉬納米點粒徑均勻且小于10nm，平均粒徑尺寸為3.07±0.45nm，且厚度在1.43±0.08nm，具有很好的分散性。

2.根據權利要求1所述的三氧化鉬納米點抑菌材料的制備方法，其特征在于，三氧化鉬納米點含有氧空位，具有較多的表面氧缺陷，使其具有更多活性位點，能更好的利用納米酶的性質抑制殺死傷口中的菌體。

3.根據權利要求1所述的三氧化鉬納米點抑菌材料的制備方法，其特征在于，三氧化鉬納米點在從可見光到近紅外波長為300-1000nm之間有廣泛吸收，具有出色的紅外吸收性能。

4.一種如權利要求1所述的制備方法制備得到的三氧化鉬納米點在光熱成像材料的應用，其特征在于，三氧化鉬納米點作為光熱成像材料，用于光熱成像儀拍照。

5.一種如權利要求1所述的制備方法制備得到的三氧化鉬納米點作為抑菌材料的應用，其特征在于，三氧化鉬納米點在近紅外照射下配合類酶使用，能夠很好的將光能轉化成熱能，且正好達到類酶活性的最佳溫度，使酶活狀態達到最佳，并生成適量活性氧，抑制菌體的生長；光熱轉換效率達21.26％。