[發明專利]一種淺層“亮點”氣分布精細刻畫方法

在審

• 申請號: 202011101352.8
• 申請日: 2020-10-15
• 公開（公告）號: CN114428368A
• 公開（公告）日: 2022-05-03
• 發明（設計）人: 宋彥章;姜忠新;馬儼;董冬;王海;盧建勇;張丁濤;路琴;朱小影;龐燕
• 申請（專利權）人: 中國石油化工股份有限公司;勝利油田魯明油氣勘探開發有限公司
• 主分類號: G01V11/00
• 分類號: G01V11/00
• 代理公司: 濟南日新專利代理事務所(普通合伙) 37224
• 代理人: 劉亞寧

本發明涉及石油天然氣勘探開發技術領域，涉及一種淺層“亮點”氣分布精細刻畫方法。所述方法包括以下步驟：S1、制作已鉆氣層井合成記錄，進行井震精細標定，確定淺層“亮點”氣層在地震上的響應特征；S2、結合地震切片技術，確定淺層“亮點”的平面分布位置；S3、聯合S1和S2，描述淺層“亮點”的空間分布；S4、利用疊后地震吸收衰減類屬性，檢測S3描述的淺層“亮點”含氣性，刻畫其含氣邊界；S5、利用疊前地震碳氫指示屬性，分析S4刻畫的淺層“亮點”含氣豐度。本發明方法可有效識別淺層真假“亮點”，提高淺層“亮點”氣層的描述精度，克服了現有淺層“亮點”型氣層地震描述方法不能滿足現有條件下勘探開發需求的難題。

技術領域

本發明涉及石油天然氣勘探開發技術領域，涉及一種淺層“亮點”氣分布精細刻畫方法。

背景技術

自上世紀90年代以來，“亮點技術”一直是勝利油田東部探區淺層氣藏預測描述及開發評價的核心技術。從最初的的二維地震“亮點描述”到近20年的三維地震“亮點描述”，亮點描述技術在不斷發展。

以“亮點”技術為核心的淺層氣藏綜合勘探技術是濟陽坳陷淺層氣藏勘探和部署的有效技術,但由于“亮點”反射的多解性以及技術應用的綜合性,淺層氣藏的鉆探成功率有待提升。2009年，申請人在全面總結淺層氣藏“亮點”反射特征及其陷阱因素的基礎上,提出對“亮點”進行地質、地震和模型等多重約束的概念和思路(董冬,中國石化勝利油田魯明油氣勘探開發有限公司.淺層氣藏亮點技術及其多重約束——以濟陽坳陷為例[J].2008年復雜油氣田勘探開發學術研討會,2009.)。

段海鳳在《濟陽坳陷淺層天然氣勘探技術》論文中公開了淺層天然氣藏三維地震描述技術，通過對淺層天然氣藏條件及主控因素進行分析，在全區進行“亮點”普查，通過對地震資料進行噪音壓制、振幅補償、地表吸收、靜校正、偏移等處理，在資料處理的基礎上，通過合成地震記錄對氣藏進行標定，根據“亮點”反射特征對氣藏進行解釋和描述(段海鳳.濟陽坳陷淺層天然氣勘探技術[J].石油天然氣學報,2011(01):7+95-99.)。

隨著勘探開發程度越來越深入，勘探開發效益標準越來越高，淺層氣藏預測難度越來越大，對“亮點”描述技術提出了更高要求。而目前尚未有對“亮點”描述更為準確的新方法。

針對淺層“亮點”描述，不僅要回答氣藏可能在哪兒，而且要盡可能地識別假氣藏，并對氣藏的邊界、含氣豐度等進行精細描述，因此，建立一種淺層“亮點”氣分布精細刻畫技術流程，對進一步提高井位部署成功率和新井產能具有重要指導意義。

發明內容

本發明主要目的是提供一種淺層“亮點”氣分布精細刻畫方法，本發明方法通過淺層“亮點”在地震剖面上的響應特征和平面上的分布位置，運用“點”、“線”、“面”的解釋手段，描述淺層“亮點”的空間分布，結合疊后、疊前地震屬性技術，利用多屬性技術實現淺層“亮點”的精細刻畫；本發明方法可有效識別淺層真假“亮點”，提高淺層“亮點”氣層的描述精度，克服了現有淺層“亮點”型氣層地震描述方法不能滿足現有條件下勘探開發需求的難題。

為實現上述目的，本發明采用以下技術方案：

本發明提供一種淺層“亮點”氣分布精細刻畫方法，包括以下步驟：

S1、制作已鉆氣層井合成記錄，進行井震精細標定，確定淺層“亮點”氣層在地震上的響應特征；

S2、結合地震切片技術，確定淺層“亮點”的平面分布位置；

S3、聯合S1和S2，通過“點”、“線”、“面”的解釋手段，描述淺層“亮點”的空間分布；

S4、利用疊后地震吸收衰減類屬性，檢測S3描述的淺層“亮點”含氣性，刻畫其含氣邊界；

S5、利用疊前地震碳氫指示屬性，分析S4刻畫的淺層“亮點”含氣豐度。