[發明專利]光引發劑組合物、光固化組合物及含有其的產品

在審

• 申請號: 202011098705.3
• 申請日: 2020-10-14
• 公開（公告）號: CN114369179A
• 公開（公告）日: 2022-04-19
• 發明（設計）人: 趙文超;王辰龍;麻忠利;王永林;胡偉靜;邵俊峰
• 申請（專利權）人: 江蘇英力科技發展有限公司;北京英力科技發展有限公司
• 主分類號: C08F2/50
• 分類號: C08F2/50;G03F7/004;G03F7/027;G02B5/23;G02F1/1335
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 張美月

1.一種光引發劑組合物，其特征在于，所述光引發劑組合物包括：?；沁蜓苌锖碗旷セ衔铮黄渲?/p>

?；沁蜓苌镞x自式Ⅰ所示化合物，式Ⅱ-A所示化合物、Ⅱ-B所示化合物、Ⅱ-C所示化合物、式Ⅱ-D所示化合物、式Ⅱ-E所示化合物、式Ⅱ-F所示化合物、Ⅱ-G所示化合物、Ⅱ-H所示化合物和Ⅱ-I所示化合物組成的組中的一種或多種；

所述肟酯化合物為式(Ⅲ)所示化合物；

其中，R₁，R₂，R₄，R₅，R₇，R₈，R₂₄，R₂₅，R₂₇，R₂₈，R₃₄，R₃₅，R₃₇，R₃₈，R₄₁，R₄₂，R₄₄，R₄₅，R₄₇，R₄₈，R₅₄，R₅₅，R₆₁，R₆₂，R₆₇，R₆₈，R₇₁，R₇₂，R₇₄，R₇₅，R₁₀₂-R₁₀₈，R₁₁₂，R₁₁₄，R₁₁₅，R₁₁₇，R₁₁₈，R₁₂₁，R₁₂₂，R₁₂₄-R₁₂₇各自獨立地是H，鹵素原子，C₁-C₈烷基，C₁-C₈烷氧基，CN；

R₇₀選自H或C₁-C₁₀烷氧基，R₇₃選自H、C₆-C₂₀芳酰基，所述C₆-C₂₀芳?；械闹辽僖粋€氫原子被鹵原子取代、和/或在所述C₆-C₂₀芳?；膫孺溨胁迦胍粋€O原子形成的取代基；

R₆，R₂₆，R₃₆，R₄₆，R₅₆，R₆₆，R₁₀₆，R₁₁₆各自獨立地選自H，鹵素原子，CN，C₁-C₈烷基，C₁-C₁₂烷基酰基，C₅-C₆取代的C₁-C₃烷基酰基，C_6-C₂₀芳?；珻₄-C₂₀雜芳基酰基，或所述R₆，所述R₂₆，所述R₃₆，所述R₄₆，所述R₅₆，所述R₆₆，所述R₁₀₆，所述R₁₁₆分別與其相鄰的取代基構成5～7元環，其中所述C₆-C₂₀芳酰基與所述C₄-C₂₀雜芳?；系娜〈u素原子、R₄₀、OR₅₀、SR₅₀、NR₅₁R₅₂、COOR₅₀或CONR₅₁R₅₂；

當所述R₁₁₆為C₆-C₂₀芳?；駽₄-C₂₀雜芳基酰基時，芳環或雜芳環上的?；泥徫蝗〈c咔唑環上的任意碳原子相連；

R₉，R₂₉，R₃₉，R₄₉，R₅₉，R₆₉各自獨立地選自C₁-C₁₂直鏈或支鏈烷基，C₂-C₁₂烯基，C₃-C₁₂烯基烷基，或C₁-C₁₂直鏈或支鏈烷基，C₂-C₁₂烯基，C₃-C₁₂烯基烷基中的氫被一個或多個以下取代基取代形成的第一基團：苯基、C₅-C₆環烷基、C₃-C₆雜環基、鹵素、COOR₂₀、OR₂₀、SR₂₀、PO(OC_nH_2n+1)₂、Si(C_nH_2n+1)₃，n為1-4的整數；或

所述R₉，所述R₂₉，所述R₃₉，所述R₄₉，所述R₅₉，所述R₆₉各自獨立地選自C₃-C₁₂烷基和/或C₃-C₁₂烯基烷基，且碳鏈中插入一個或多個O、S、SO、SO₂、CO或COO；或所述R₉，所述R₂₉，所述R₃₉，所述R₄₉，所述R₅₉，所述R₆₉各自獨立地選自C₂-C₁₂亞烷基和/或C₄-C₁₂含雙鍵亞烷基，且所述C₂-C₁₂亞烷基或C₄-C₁₂含雙鍵亞烷基末端所連基團與所述R₉，所述R₂₉，所述R₃₉，所述R₄₉，所述R₅₉，所述R₆₉各自所連接的基團相同；或

所述R₉，所述R₂₉，所述R₃₉，所述R₄₉，所述R₅₉，所述R₆₉各自獨立地選自苯基，或苯基被一個或多個以下取代基取代形成的第二基團：C₁-C₈烷基、鹵素原子、OR₂₀、SR₂₀、COR₃₀、CN、COOH；

R₁₀，R₁₁₀，R₁₂₀，R₁₃₀各自獨立地選自C₁-C₁₂烷基或C₆-C₂₀芳基；

Ar₁，Ar₂，Ar₃，Ar₄，Ar₅，Ar₆，Ar₇，Ar₈，Ar₉各自獨立地選自C₆-C₂₀芳基，C₄-C₂₀雜芳基，或所述C₆-C₂₀芳香基及所述C₄-C₂₀雜芳香基上的至少一個H被以下基團取代形成的基團：鹵素原子，CN，R₄₀，OR₅₀，SR₅₀，NR₅₁R₅₂，COOR₅₀，CONR₅₁R₅₂，其中所述Ar₁，所述Ar₂，所述Ar₅上的酰基鄰位通過O，S原子可與咔唑環上的任意碳原子連接，且所述Ar₁不包括苯基，鄰甲基苯基和對甲基苯基；

Y選自C₁-C₃直鏈或支鏈亞烷基；m，n各自獨立地選自0或1；

式(Ⅲ)中，Ar₉選自母體結構為芳基硫基芳基、芴-2-基、苯并芴基或香豆素-3-基的第三基團，或所述第三基團中的氫被一個或多個以下取代基取代形成的基團：鹵素原子、硝基、R₁₁A或取代，

所述m₁為0或1；

所述A選自直鍵、O、S、CO或R₁₁’N，且所述R₁₁’為C₁-C₁₂烷基；

所述R₁₁選自C₁～C₁₂烷基、被一個或多個氧原子或硫原子插入的C₃～C₁₂烷基、C₃～C₈的環烷基、C₃～C₈雜環基、C₂～C₇鏈烯基甲基、C₆～C₁₅芳基或C₄～C₁₅雜芳基，且所述C₆～C₁₅芳基和C₄～C₁₅雜芳基中的氫原子可被氟原子、或C₁-C₄烷基磺?；〈?，且所述C₁～C₄烷基的氫原子可被F、C₁-C₄烷氧基、OH、OOCR₁₄、COOR₁₉、(R₁₉O)₂P(O)、(CH₃)₃Si或苯基取代，所述R₁₉為C₁-C₄烷基；或所述R₁₁或所述R₁₁’與相鄰母體上的原子形成5～7元環，或R₁₁R₁₁’N為環狀取代基；或

所述Ar₉與相鄰取代基形成5～7元環；

所述R₁₃為C₁-C₁₆烷基，苯基、C₄-C₇環烷基、C₁-C₁₆烷基中的氫原子被至少一個鹵素原子、C₄-C₇環烷基、C₄-C₇雜環基、苯基、羥基、CN、R₁₄COO或R₄₀OOC取代形成的基團，C₃-C₁₆烷基中的氫原子被至少一個鹵素原子、C₄-C₇環烷基、C₄-C₇雜環基、苯基、羥基、CN、R₁₄COO或R₄₀OOC取代，且被至少一個氧原子或硫原子插入形成的基團，或苯基中的氫原子被至少一個鹵素原子、C₁-C₁₂烷基、C₁-C₄烷氧基、CN取代形成的基團、或者所述R₁₃與相鄰的Ar₉相連構成5至7元環，所述R₁₄選自C₁-C₁₁烷基、C₃-C₅鏈烯基、C₁-C₄烷氧基、苯氧基、苯基、C₁-C₁₁烷基中的氫原子被至少一個鹵素原子、C₄-C₇環烷基或CN取代形成的基團，或苯基中的氫原子被至少一個鹵素原子、C₁-C₄烷基、C₁-C₄烷氧基、CN取代形成的基團；

所述R₂₀和所述R₃₀各自獨立地選自H，C₁-C₈烷基，經一個或多個F、Cl、OH、C₅-C₆環烷基取代形成的C₁-C₈烷基，含有一個或多個O或S間隔，且被羥基和/或OOCR₄取代的C₃-C₈烷基，含有一個或2個O、S、N雜原子的五元或六元環，苯基，經一個或多個鹵素原子或C₁-C₄烷基取代的苯基；

所述R₄₀和所述R₅₀各自獨立地選自C₁-C₈烷基，C₁-C₈烷基被至少一個F、Cl或羥基取代形成的基團，C₃-C₈烷基中插入一個或多個氧原子、且至少一個氫原子被羥基和/或乙酰氧基取代形成的基團，含有1-2個雜原子的五元環或六元環，苯基，或C₁-C₄烷基苯基；

所述R₅₁和所述R₅₂各自獨立地選自C₁-C₄烷基，被羥基取代的C₁-C₄烷基，或NR₅₁R₅₂為環狀取代基。