[發(fā)明專利]人像液化背景保持方法、系統(tǒng)及介質(zhì)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011098590.8 | 申請日： | 2020-10-14 |
| 公開（公告）號： | CN112163992A | 公開（公告）日： | 2021-01-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 鄧海峰;曹烈安;林立;張鵬飛 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海影卓信息科技有限公司 |
| 主分類號： | G06T3/00 | 分類號： | G06T3/00;G06T5/30;G06T7/11;G06T7/155;G06T7/194;G06N3/04 |
| 代理公司： | 上海段和段律師事務(wù)所 31334 | 代理人： | 李佳俊;郭國中 |
| 地址： | 201100 上海市閔*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 人像 液化 背景 保持 方法 系統(tǒng) 介質(zhì) | ||
本發(fā)明提供了一種人像液化背景保持方法、系統(tǒng)及介質(zhì)，通過人像分割算法、摳圖算法生成人像區(qū)域，通過深度學(xué)習(xí)算法對人像區(qū)域進行背景填充，單獨對人像區(qū)域進行液化操作，將液化的人像通過Alpha融合到背景圖像上。本發(fā)明通過對人像和背景精細(xì)化分割分離，只對人像進行液化操作，解決了背景也跟著變形扭曲失真的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及圖像處理技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及人像液化背景保持方法、系統(tǒng)及介質(zhì)。
背景技術(shù)
圖像液化即圖像扭曲變形技術(shù)，最常用的包括瘦臉、美體。
對圖像前景進行扭曲變形時，背景也隨之變形，在背景比較特殊的情況下，就能明顯感覺失真。
目前業(yè)界主流的做法即通過提供背景蒙版保持背景不被液化，然后通過patch-match算法來補全前景扭曲造成的背景空洞：目前背景蒙版需要手動制作，而patch-match算法背景填充容易造成空間像素的紊亂。
專利文獻CN111028145A(申請?zhí)枺篊N201911254829.3)公開了一種防止背景變形的人物圖像處理方法，包括以下步驟：1、分割人物圖像原圖得到原圖蒙版圖；2、對上述兩者進行變形得到原圖變形圖和原圖蒙版變形圖；3、對人物圖像原圖逐層濾波并生成蒙版圖得到圖像金字塔；對蒙版圖進行擴張和距離變換；4、計算未知區(qū)域梯度并進行SVD分解；5、從金字塔頂層開始順序進行近鄰搜索、十字形搜索和帶限制的隨機搜索得到最佳匹配塊位置；6、用每個未知像素位置的最佳匹配塊位置對其進行填充；7、重復(fù)步驟5和6，更新后的金字塔底層即為填充結(jié)果圖；8、將原圖變形圖、原圖蒙版變形圖和填充結(jié)果圖合成得到背景未變形的人物圖像。本發(fā)明在對人物圖像進行瘦身的同時還能保持圖像背景的自然。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，本發(fā)明的目的是提供一種人像液化背景保持方法、系統(tǒng)及介質(zhì)。
根據(jù)本發(fā)明提供的一種人像液化背景保持方法，通過人像分割算法、摳圖算法生成人像區(qū)域，通過深度學(xué)習(xí)算法對人像區(qū)域進行背景填充，單獨對人像區(qū)域進行液化操作，將液化的人像通過Alpha融合到背景圖像上。
優(yōu)選地，包括：
步驟S1：通過基于深度卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)DCN的人像語義分割算法，從原始圖像Input上提取粗糙的人像區(qū)域圖像A1；
步驟S2：利用粗糙的人像區(qū)域A1生成三分圖Trimap；
步驟S3：利用Image Matting算法，從Input和Trimap中提取精細(xì)的人像區(qū)域圖像A2；
步驟S4：執(zhí)行Input的背景和人像分離算法，生成人像圖像H1和背景圖像B1；
步驟S5：通過基于深度卷積生成對抗神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)DCGAN,以B1和A2為輸入，通過DCGAN算法補全A2區(qū)域的背景圖像，生成補全的背景圖像B2；
步驟S6：對H1和A2圖像進行同步液化操作，以達(dá)到瘦臉和美體的功能，生成人像圖像H2和alpha圖像A3；
步驟S7：將背景圖像B2和人像圖像H2以alpha圖像A3為權(quán)重進行alpha融合生成液化而背景不變形的輸出圖像。
優(yōu)選地，所述步驟S2：
步驟S201：對A1人像區(qū)域進行尺寸為rc形態(tài)學(xué)腐蝕，腐蝕后的區(qū)域標(biāo)記為三分圖的前景；
步驟S202：對A1非人像區(qū)域進行尺寸為rc的形態(tài)學(xué)腐蝕，腐蝕后的區(qū)域標(biāo)記為三分圖的背景；
步驟S203：將A1中除了前景、背景的區(qū)域標(biāo)記為三分圖的過渡區(qū)；
步驟S204：合并前景、背景、過渡區(qū)到三分圖Trimap中。
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