[發(fā)明專利]干膜、觸控模組及其制備方法、電子裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011096912.5 | 申請日: | 2020-10-14 |
| 公開(公告)號: | CN112306290A | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周金東;孫萬華;揭海歡 | 申請(專利權(quán))人: | 南昌歐菲顯示科技有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/041 | 分類號: | G06F3/041;C09J7/10;G03F7/004 |
| 代理公司: | 廣州德科知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44381 | 代理人: | 萬振雄;林玉旋 |
| 地址: | 330000 江西省南昌市臨空經(jīng)濟區(qū)*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 模組 及其 制備 方法 電子 裝置 | ||
1.一種干膜,其特征在于:包括依次層疊設(shè)置的第一離型層、感光膠層、離型膠層、第二離型層。
2.如權(quán)利要求1所述的干膜,其特征在于:沿垂直于所述干膜的方向,所述離型膠層的厚度小于所述第一離型層、所述感光膠層及所述第二離型層的厚度。
3.如權(quán)利要求2所述的干膜,其特征在于:沿垂直于所述干膜的方向,所述第一離型層的厚度范圍為10um~100um;和/或,所述感光膠層的厚度范圍為10um~150um;和/或,所述離型膠層厚度范圍為5um~50um;和/或,所述第二離型層的厚度范圍為10um~100um。
4.如權(quán)利要求1所述的干膜,其特征在于:所述離型膠層相對于所述感光膠層的離型力大于所述第二離型層相對于所述離型膠層的離型力。
5.如權(quán)利要求1所述的干膜,其特征在于:所述離型膠層的紫外光透過率大于等于90%。
6.如權(quán)利要求1所述的干膜,其特征在于:所述離型膠層材料為硅酮、合成橡膠、丙烯酸系、聚酯系粘合劑中的至少一種。
7.如權(quán)利要求1所述的干膜,其特征在于:所述離型膠層可以被顯影液完全溶解。
8.一種使用如權(quán)利要求1~7中任一項所述的干膜制備觸控模組的方法,其特征在于,至少包括如下步驟:
去除第一離型層,將干膜與基板貼合;
去除第二離型層,釋放干膜應(yīng)力;
使用光罩對干膜進行曝光;
顯影;
蝕刻、剝膜。
9.如權(quán)利要求8所述的制備觸控模組的方法,其特征在于:所述基板至少包括基材與設(shè)置在所述基材一側(cè)表面的導(dǎo)電層,所述導(dǎo)電層遠離所述基材的一側(cè)表面直接與所述干膜貼合。
10.如權(quán)利要求8所述的制備觸控模組的方法,其特征在于:沿垂直于所述基板的方向,所述離型膠層厚度小于所述基板厚度。
11.如權(quán)利要求8所述的制備觸控模組的方法,其特征在于,顯影的步驟進一步包括:
去除離型膠層;
使用顯影液進行顯影。
12.如權(quán)利要求8所述的制備觸控模組的方法,其特征在于:所述顯影的步驟為曝光后直接進行顯影,不去除所述離型膠層。
13.如權(quán)利要求12所述的制備觸控模組的方法,其特征在于:所述離型膠層不受曝光影響,且能被所述顯影液完全洗去。
14.一種觸控模組,其特征在于:所述觸控模組由如權(quán)利要求8~12中任一項所述的方法制成。
15.一種電子裝置,其特征在于:所述電子裝置包括本體與如權(quán)利要求14所述的觸控模組,所述觸控模組安裝在所述本體上。
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