[發(fā)明專利]小漏率正壓漏孔校準方法及裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011095026.0 | 申請日: | 2020-10-14 |
| 公開(公告)號: | CN112113707A | 公開(公告)日: | 2020-12-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 劉貝貝;許紅;張忠立;王燦;張斯宏;金愿 | 申請(專利權)人: | 上海市計量測試技術研究院 |
| 主分類號: | G01M3/00 | 分類號: | G01M3/00;G01M3/26 |
| 代理公司: | 上海伯瑞杰知識產(chǎn)權代理有限公司 31227 | 代理人: | 王一琦 |
| 地址: | 200040 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 小漏率 正壓 漏孔 校準 方法 裝置 | ||
1.一種小漏率正壓漏孔校準方法,其特征在于:
設置一校準室和與校準室同等材質(zhì)的參考室,二者由差壓薄膜規(guī)和截止閥隔開;
所述參考室的管路上設置一可排氣的放空閥(6),所述校準室的管路上設置一測試閥(14),校準室通過所述測試閥(14)與漏孔連通;
氣體量Q﹒t正比于差壓薄膜規(guī)讀數(shù)P;可得出其中Q代表漏率,t代表時間;
在校準室設置一活塞(10),通過先測量推進活塞(10)引起的壓差,等效于漏孔流入的氣體量,計算出體積系數(shù)k;
k=P0·x·A/(P2-P1);
其中:A為活塞截面積;x為活塞移動距離;P1、P2為活塞移動前后薄膜計示值;
再測量由被檢漏孔流入校準室引起的壓力P隨時間t的變化率,從而得出被檢漏孔的漏率。
2.如權利要求1所述的小漏率正壓漏孔校準方法,其特征在于:所述校準室與參考室均設置于一密閉空間內(nèi),對所述密閉空間實施溫控。
3.如權利要求2所述的小漏率正壓漏孔校準方法,其特征在于:所述溫控采用PID控制系統(tǒng)(2)對半導體制冷恒溫控制系統(tǒng)實施溫控。
4.如權利要求1所述的小漏率正壓漏孔校準方法,其特征在于:將被校漏孔通過測試閥與校準室相連,讀取差壓薄膜計示值P1,氣動控制活塞推進一定的距離△L,讀取差壓薄膜計示值P2,則壓力變化量△P1=P2-P1。將活塞退回原位置,讀取差壓薄膜計示值P3,△P2=P3-P1,則由活塞推進體積引起的壓力變化量△P=△P1-1/2△P2;如此重復測量N次,取N次測量平均值。
5.一種小漏率正壓漏孔校準裝置,其特征在于:
采用權利要求2所述的小漏率正壓漏孔校準方法;
所述活塞(10)由氣動控制裝置(16)控制,采用容柵尺(9)測量活塞行程,所述活塞(10)、氣動控制裝置(16)、容柵尺(9)構成容柵尺活塞測量系統(tǒng);
所述密閉空間上設有半導體制冷模塊(4),使密閉空間成為恒溫箱(5);
所述半導體制冷恒溫控制系統(tǒng)包括依次相連的電源模塊、半導體制冷模塊、溫度檢測模塊,控制模塊同時連接電源模塊的輸入端及溫度檢測模塊的輸出端。
6.如權利要求5所述的小漏率正壓漏孔校準裝置,其特征在于:漏孔設置于一空間內(nèi),空間內(nèi)設置一三維移動工作臺,漏孔設置于該三維移動工作臺上,便于漏孔與校準室密封連接,檢測時,用隔離蓋使漏孔、漏孔與校準裝置的連接部分與空氣隔離。
7.如權利要求5所述的小漏率正壓漏孔校準裝置,其特征在于:
在參考室管道上設置一放空閥(6),所述放空閥(6)通過管路與外接的機械泵連接;
當下一個漏孔與上一個漏孔的氣體不同時,則在上一個漏孔檢測結束后,關閉測試閥(14),打開截止閥(7)和放空閥(6),開啟機械泵,快速排空校準室和參考室內(nèi)部氣體。
8.如權利要求5所述的小漏率正壓漏孔校準裝置,其特征在于:還包括數(shù)據(jù)采集與控制系統(tǒng),所述數(shù)據(jù)采集與控制系統(tǒng)與所述PID控制系統(tǒng)(2)、差壓薄膜規(guī)(8)、三維移動工作臺信號連接。
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