[發明專利]微納米CT投影圖像的二次投影配準方法

有效

• 申請號: 202011094107.9
• 申請日: 2020-10-14
• 公開（公告）號: CN112233158B
• 公開（公告）日: 2022-02-15
• 發明（設計）人: 張慧滔;徐文峰;劉曉燕;朱溢佞;鄧世沃;趙星
• 申請（專利權）人: 俐瑪精密測量技術（蘇州）有限公司
• 主分類號: G06F17/18
• 分類號: G06F17/18;G06T7/38
• 代理公司: 北京匯智勝知識產權代理事務所(普通合伙) 11346
• 代理人: 石輝;趙立軍

本發明公開了一種微納米CT投影圖像的二次投影配準方法，該方法包括：步驟1，獲取樣品在投影角下的待校正投影圖像序列為取待校正投影圖像序列中的第一待校正投影圖像P_A和第二待校正投影圖像P_B，獲取第一待校正投影圖像P_A對應的第一參考投影圖像P_Astd以及第二待校正投影圖像P_B對應第二參考投影圖像P_Bstd；步驟2，將待校正投影圖像序列中的第t張待校正投影圖像為P_t(t＝1，2，...，N_A，t≠A，B)與第一參考投影圖像P_Astd按進行二次投影的頻域匹配校正。本發明能夠在迭代重投影的基礎上利用鄰近匹配進行修正，從而加快了迭代速度，有利于提高計算效率。

技術領域

本發明涉及X射線納米CT技術領域，特別是關于一種微納米CT投影圖像的二次投影配準方法。

背景技術

X射線納米CT技術是指由X射線透視成像技術與納米顯微鏡技術結合的三維成像技術，其空間分辨率可達到10納米左右。在生命科學、化學以及材料科學等領域有著廣闊應用。

然而，正是因為納米CT的高精度特性，納米CT在運轉中對各元器件的精度有著較高的要求，實際中往往不能滿足這些要求，使得成像的圖像質量降低，進而使得納米CT無法大范圍推廣使用。其中比較關鍵的一個問題在于圖像分辨率的降低，常用于納米CT的轉臺在運轉過程中，往往會發生100納米以上的徑跳和端跳，1角度以上的搖擺，這使得納米CT所測量樣品的空間分辨率難以維持在10納米左右。為了提高納米CT的空間分辨率，我們需要對數據作適當的校正。

目前國內常用的校正方法主要有：

(1)硬件上利用電容傳感器等精密儀器進行檢測校正。但是，電容傳感器價格昂貴，而且需要恒溫恒濕等較好的測試環境，成本較為高昂，CCD測量法需要穩定長效的無指向的散射光光源，同時無法得到轉軸的軸心軌跡。

(2)軟件上的圖像處理算法進行計算校正。但是，迭代重投影的方法只能校正徑跳的誤差，而且在一些轉臺徑跳變化劇烈時收斂速度變慢。二次投影的空間域配準方法計算量大，導致了計算效率低。提取投影數據的特征點要求投影數據具有良好的對比度，否則存在較大的誤差。而納米CT數據，比如細胞數據，往往不具有良好的對比度，因此該方法的抗噪性不足。

發明內容

本發明的目的在于提供一種微納米CT投影圖像的二次投影配準方法來克服或至少減輕現有技術的上述缺陷中的至少一個。