[發明專利]一種多光合束雕刻的控制方法及裝置

在審

• 申請號: 202011092273.5
• 申請日: 2020-10-13
• 公開（公告）號: CN112247363A
• 公開（公告）日: 2021-01-22
• 發明（設計）人: 謝清鵬
• 申請（專利權）人: 深圳市嗨興科技有限公司
• 主分類號: B23K26/362
• 分類號: B23K26/362;B23K26/064;B23K26/067
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種多光合束雕刻的控制方法，其特征在于，所述方法包括下述步驟：

接收雕刻預覽指令；

根據所述雕刻預覽指令控制一個或多個可見光激光發射器發出具有非雕刻功率的可見激光；

使用具有非雕刻功率的一條或多條可見激光照射在被雕刻物上進行雕刻預覽；

接收雕刻指令；

根據所述雕刻指令控制一個或多個可見光激光發射器、或和一個或多個非可見光激光發射器發出具有雕刻功率的激光對被雕刻物進行雕刻。

2.權利要求1所述的方法，其特征在于，在所述控制一個或多個可見光激光發射器發出具有非雕刻功率的可見激光之前還包括：

獲取具有非雕刻功率的可見激光的光功率值；

所述根據所述雕刻預覽指令控制一個或多個可見光激光發射器發出具有非雕刻功率的可見激光包括：

可見光激光發射器根據所述具有非雕刻功率的可見激光的光功率值發出對應功率的可見激光。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于，使用具有非雕刻功率的一條或多條可見激光照射在被雕刻物上進行雕刻預覽之前還包括：

對所述具有非雕刻功率的一條可見激光進行聚焦，將聚焦之后的可見激光往X軸方向反射或和往Y軸方向反射，使用反射后的激光照射在被雕刻物上進行雕刻預覽；

對所述具有非雕刻功率的多條可見激光分別先進行聚焦后合束或先合束后聚焦、并往X軸方向反射或和往Y軸方向反射，使用反射后的激光照射在被雕刻物上進行雕刻預覽。

4.一種多光合束雕刻方法，包括多個激光發射器，其特征在于，所述方法包括下述步驟：

將多個所述激光發射器發出的激光均進行合束，對合束后的激光進行聚焦，使用聚焦后的激光對被雕刻物進行雕刻預覽或雕刻；

或將多個所述激光發射器發出的激光分別進行聚焦，對多個聚焦后的激光均進行合束，使用合束后的激光對被雕刻物進行雕刻預覽或雕刻；

多個所述激光發射器至少包括一個可見光激光發射器和一個非可見光激光發射器。

5.如權利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

將多個所述激光發射器發出的激光均進行合束，使用光傳導材料將合束后的激光傳輸至被雕刻物上對被雕刻物進行雕刻預覽或雕刻。

6.如權利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

將多個所述激光發射器發出的激光均進行合束，使用光傳導材料對合束后的激光進行傳輸，所述光傳導材料傳輸出的激光進行聚焦后對被雕刻物進行雕刻預覽或雕刻。

7.如權利要求4所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

將多個所述激光發射器發出的激光分別進行聚焦，對多個聚焦后的激光均進行合束，使用光傳導材料將合束后的激光傳輸至被雕刻物上對被雕刻物進行雕刻預覽或雕刻。

8.如權利要求4-7任意一項所述的方法，其特征在于，在所述對被雕刻物進行雕刻預覽或雕刻之前還包括：

使用反射鏡對所述聚焦后的激光或所述合束后的激光進行反射，使用反射后的激光對被雕刻物進行雕刻預覽或雕刻。

9.如權利要求8所述的方法，其特征在于，所述使用反射鏡對所述聚焦后的激光或所述合束后的激光進行反射包括：對所述聚焦后的激光或所述合束后的激光往X軸方向反射或和往Y軸方向反射。

10.一種多光合束雕刻的控制裝置，其特征在于，所述裝置包括：

接收模塊，用于接收雕刻預覽指令；控制模塊，用于根據所述雕刻預覽指令控制一個或多個可見光激光發射器發出具有非雕刻功率的可見激光；照射模塊，用于使用具有非雕刻功率的一條或多條可見激光照射在被雕刻物上進行雕刻預覽；第二接收模塊，用于接收雕刻指令；

雕刻模塊，用于根據所述雕刻指令控制一個或多個可見光激光發射器、或和一個或多個非可見光激光發射器發出具有雕刻功率的激光對被雕刻物進行雕刻；

儲存器，存儲計算機指令；

處理器，與所述儲存器互相通信連接，所述處理器通過執行所述儲存器存儲的計算機指令，從而執行權利要求1所述的方法。