[發(fā)明專利]一種薄膜熱電材料性能參數(shù)測(cè)試裝置、方法及系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011091786.4
• 申請(qǐng)日: 2020-10-13
• 公開（公告）號(hào): CN114354678A
• 公開（公告）日: 2022-04-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 狄重安;金文龍;趙文瑞;鄒業(yè);張鳳嬌;孟青;代小娟;朱道本
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院化學(xué)研究所
• 主分類號(hào): G01N25/20
• 分類號(hào): G01N25/20;G01N27/04
• 代理公司: 北京天達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11386
• 代理人: 姚東華

1.一種薄膜熱電材料性能參數(shù)測(cè)試裝置，其特征在于，包括：自下而上設(shè)置的基礎(chǔ)溫度控制單元和溫度差控制單元；

所述基礎(chǔ)溫度控制單元用于控制待測(cè)樣品所處的基礎(chǔ)溫度；

所述溫度差控制單元用于控制所述待測(cè)樣品兩端的溫度差；

所述溫度差控制單元包括待測(cè)樣品承載部，所述待測(cè)樣品承載部用于承載所述待測(cè)樣品。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述裝置，其特征在于，

所述裝置還包括：緩沖層；

所述緩沖層設(shè)置在所述溫度差控制單元和所述基礎(chǔ)溫度控制單元之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述裝置，其特征在于，

所述基礎(chǔ)溫度控制單元包括：電加熱塊和液氮管路；

所述電加熱塊用于加熱所述待測(cè)樣品；

所述液氮管路用于提供室溫至液氮溫度區(qū)間的基礎(chǔ)測(cè)試溫度或快速冷卻加熱后的待測(cè)樣品；

所述液氮管路設(shè)置于所述電加熱塊下方。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述裝置，其特征在于，

所述電加熱塊上設(shè)置有檢測(cè)孔，所述檢測(cè)孔用于安裝電加熱源和測(cè)溫元件。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4所述裝置，其特征在于，

所述溫度差控制單元還包括：加熱部；

所述加熱部用于控制所述待測(cè)樣品兩端的溫度差待測(cè)樣品。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述裝置，其特征在于，

所述加熱部包括：第一加熱塊和第二加熱塊；

第一加熱塊和第二加熱塊之間具有間隙，待測(cè)樣品一端置于所述第一加熱塊上方，另一端置于所述第二加熱塊上方。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述裝置，其特征在于，

所述待測(cè)樣品承載部，包括：平行設(shè)置的第一樣品槽和第二樣品槽；

所述第一樣品槽兩端分別設(shè)置在所述第一加熱塊和所述第二加熱塊上；所述第二樣品槽兩端分別設(shè)置在所述第一加熱塊和所述第二加熱塊上；

所述第一樣品槽用于承載待測(cè)樣品和基底，所述第二樣品槽用于承載空白基底。

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述裝置，其特征在于，所述緩沖層靠近溫度差控制單元的一側(cè)設(shè)有分隔槽，待測(cè)樣品的兩端位于分隔槽的兩側(cè)。

9.一種薄膜熱電材料性能參數(shù)測(cè)試方法，基于權(quán)利要求1-8所述的裝置，其特征在于，包括：

將盛放待測(cè)樣品的基底放置在第一樣品槽中，將空白基底設(shè)置在第二樣品槽中；

利用基礎(chǔ)溫度控制單元將所述第一樣品槽和所述第二樣品槽的溫度提升至設(shè)定溫度；

在所述設(shè)定溫度下，采集所述第一樣品槽對(duì)應(yīng)的電阻測(cè)試數(shù)據(jù)和所述第二樣品槽對(duì)應(yīng)的第一校準(zhǔn)數(shù)據(jù)；

根據(jù)所述設(shè)定溫度，利用溫度差控制單元調(diào)整所述第一樣品槽和所述第二樣品槽的溫度差至設(shè)定溫度差；

獲取所述設(shè)定溫度差下所述第一樣品槽對(duì)應(yīng)的塞貝克電壓和所述第二樣品槽對(duì)應(yīng)的第二校準(zhǔn)數(shù)據(jù)。

10.一種薄膜熱電材料性能參數(shù)測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，包括：計(jì)算機(jī)設(shè)備、控制單元和權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的熱電材料性能參數(shù)測(cè)試裝置。