[發明專利]一種目標檢測方法及裝置、電子設備和存儲介質在審
| 申請號: | 202011091318.7 | 申請日: | 2020-10-13 |
| 公開(公告)號: | CN112200201A | 公開(公告)日: | 2021-01-08 |
| 發明(設計)人: | 林少波;曾星宇;趙瑞;朱烽 | 申請(專利權)人: | 上海商湯智能科技有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/46 | 分類號: | G06K9/46;G06K9/62;G06N3/04 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 200233 上海市徐*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 目標 檢測 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種目標檢測方法,其特征在于,包括:
利用目標檢測網絡中的第一特征提取支路,對待檢測圖像進行淺層特征提取,得到所述待檢測圖像對應的淺層特征圖;
利用所述目標檢測網絡中的第二特征提取支路,對所述待檢測圖像進行深層特征提取,得到所述待檢測圖像對應的深層特征圖;
對所述淺層特征圖和所述深層特征圖進行特征融合,得到融合特征圖,其中,所述融合特征圖為用于進行目標檢測的特征圖;
根據所述融合特征圖,得到所述待檢測圖像對應的目標檢測結果。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一特征提取支路包括:殘差特征提取模塊,其中,所述殘差特征提取模塊包括多個卷積層;
所述利用目標檢測網絡中的第一特征提取支路,對待檢測圖像進行淺層特征提取,得到所述待檢測圖像對應的淺層特征圖,包括:
利用所述殘差特征提取模塊,對所述待檢測圖像進行特征提取,得到所述淺層特征圖。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述第一特征提取支路包括:多尺度特征提取模塊,其中,所述多尺度特征提取模塊包括多個特征提取分支,不同特征提取分支用于提取不同尺度的特征圖;
所述利用目標檢測網絡中的第一特征提取支路,對待檢測圖像進行淺層特征提取,得到所述待檢測圖像對應的淺層特征圖,包括:
利用所述多尺度特征提取模塊,對所述待檢測圖像進行特征提取,得到多個不同尺度的第一特征圖;
對多個不同尺度的所述第一特征圖進行特征融合,得到所述淺層特征圖。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的方法,其特征在于,所述第一特征提取支路包括:殘差特征提取模塊和多尺度特征提取模塊;
所述利用目標檢測網絡中的第一特征提取支路,對待檢測圖像進行淺層特征提取,得到所述待檢測圖像對應的淺層特征圖,包括:
利用所述多尺度特征提取模塊,對所述待檢測圖像進行特征提取,得到多個不同尺度的第一特征圖;
對多個不同尺度的所述第一特征圖進行特征融合,得到第二特征圖;
利用所述殘差特征提取模塊,對所述第二特征圖進行特征提取,得到所述淺層特征圖。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的方法,其特征在于,所述第一特征提取支路包括:兩個卷積層;
所述利用目標檢測網絡中的第一特征提取支路,對待檢測圖像進行淺層特征提取,得到所述待檢測圖像對應的淺層特征圖,包括:
利用所述兩個卷積層,對所述待檢測圖像進行特征提取,得到所述淺層特征圖。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的方法,其特征在于,所述第一特征提取支路包括:一個卷積層和一個最大池化層;
所述利用目標檢測網絡中的第一特征提取支路,對待檢測圖像進行淺層特征提取,得到所述待檢測圖像對應的淺層特征圖,包括:
通過所述一個卷積層,對所述待檢測圖像進行特征提取,得到第三特征圖;
通過所述一個最大池化層,對所述第三特征圖進行最大池化處理,得到所述淺層特征圖。
7.根據權利要求1至6中任一項所述的方法,其特征在于,所述利用目標檢測網絡中的第一特征提取支路,對待檢測圖像進行淺層特征提取,得到所述待檢測圖像對應的淺層特征,包括:
通過一個卷積層對所述待檢測圖像進行特征提取,得到第四特征圖;
利用所述第一特征提取支路,對所述第四特征圖進行淺層特征提取,得到所述淺層特征圖。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的方法,其特征在于,所述第一特征提取支路包括:多個多尺度特征提取模塊;
所述利用目標檢測網絡中的第一特征提取支路,對待檢測圖像進行淺層特征提取,得到所述待檢測圖像對應的淺層特征圖,包括:
分別利用各所述多尺度特征提取模塊,對所述待檢測圖像進行特征提取,得到多個不同尺度的第一特征圖;
分別對所述多尺度特征提取模塊得到的多個所述第一特征圖進行特征融合,得到多個不同尺度的所述淺層特征圖。
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