[發明專利]一種改性納米穩泡劑及其制備方法與應用

有效

• 申請號: 202011091171.1
• 申請日: 2020-10-13
• 公開（公告）號: CN112266780B
• 公開（公告）日: 2022-12-20
• 發明（設計）人: 明亮;趙鳳鳴;俞波;王耀國
• 申請（專利權）人: 寧波鋒成先進能源材料研究院有限公司
• 主分類號: C09K8/70
• 分類號: C09K8/70;C09K8/72;C09K8/74;C09K8/594;C09K8/584;C09K8/38;C08F220/60;C08F220/58;C08F226/10;C08F228/02;C08F220/06;C08F220/04
• 代理公司: 北京元周律知識產權代理有限公司 11540
• 代理人: 李翠

1.一種改性納米穩泡劑，其特征在于，所述改性納米穩泡劑通過納米基材與聚合物單體、表面活性單體進行共聚改性而獲得；

所述改性納米穩泡劑為片層狀；

所述聚合物單體選自2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、甲基丙烯酸、丙烯酸鈉、N-乙烯基吡咯烷酮、馬來酸、異丙基丙烯酰胺、N,N-亞甲基雙丙烯酰胺中的至少一種；

所述表面活性單體選自羧酸甜菜堿甲基丙烯酰胺、羧酸甜菜堿甲基丙烯酸酯、α-烯烴磺酸鈉、烯丙基磺酸鈉、油酸鈉、2-丙酰胺基長碳鏈烷基磺酸鈉中的至少一種。

2.根據權利要求1所述的改性納米穩泡劑，其特征在于，所述改性納米穩泡劑的粒徑為10nm～1000nm。

3.根據權利要求1所述的改性納米穩泡劑，其特征在于，所述納米基材選自礦物基片層材料、過渡金屬二硫化物片層材料、碳基片層材料和二維材料中的至少一種；

所述礦物基片層材料選自納米蒙脫土；

所述過渡金屬二硫化物片層材料選自納米二硫化鉬、納米二硫化鎢中的至少一種；

所述碳基片層材料選自石墨烯量子點、納米氧化石墨烯中的至少一種；

所述二維材料選自六方氮化硼納米片。

4.一種如權利要求1～3任意一項所述的改性納米穩泡劑的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括以下步驟：將含有納米基材、聚合物單體、表面活性單體、引發劑的溶液I進行共聚反應，獲得所述改性納米穩泡劑。

5.根據權利要求4所述的改性納米穩泡劑的制備方法，其特征在于，所述共聚反應的條件為：除氧后進行反應，反應溫度為40～90℃，反應時間為1～8小時。

6.根據權利要求4所述的改性納米穩泡劑的制備方法，其特征在于，所述共聚反應在攪拌下進行，攪拌速率為100～800rpm。

7.根據權利要求4所述的改性納米穩泡劑的制備方法，其特征在于，所述引發劑為水溶性引發劑。

8.根據權利要求7所述的改性納米穩泡劑的制備方法，其特征在于，所述水溶性引發劑選自過硫酸鉀、過硫酸鈉、過硫酸銨、偶氮二異丁脒鹽酸鹽、偶氮二異丁咪唑啉鹽酸鹽、亞硫酸鈉、亞硫酸氫鈉、甲醛合次亞硫酸鈉、連二硫酸鈉中的至少一種。

9.根據權利要求4所述的改性納米穩泡劑的制備方法，其特征在于，所述溶液I的溶劑選自水、乙醇、甲醇、N,N-二甲基甲酰胺、二氯甲烷、三氯甲烷中的至少一種。

10.根據權利要求4所述的改性納米穩泡劑的制備方法，其特征在于，所述納米基材、聚合物單體、表面活性單體、引發劑的質量比為(0.18～0.22)：(0.5～2)：(0.1～2)：(0.016～0.025)。

11.根據權利要求4所述的改性納米穩泡劑的制備方法，其特征在于，所述溶液I中，所述納米基材的濃度為1～3mg/ml。

12.根據權利要求4所述的改性納米穩泡劑的制備方法，其特征在于，所述溶液I中，所述聚合物單體的濃度為0.001～0.02g/ml。

13.根據權利要求4所述的改性納米穩泡劑的制備方法，其特征在于，所述溶液I中，所述表面活性單體的濃度為0.001～0.02g/ml。

14.根據權利要求4所述的改性納米穩泡劑的制備方法，其特征在于，所述溶液I中，所述引發劑的濃度為0.1～0.5mg/ml。

15.一種如權利要求1～3任意一項所述的改性納米穩泡劑和/或根據權利要求4～14任意一項所述制備方法制備得到的改性納米穩泡劑在穩定泡沫中的應用。