[發(fā)明專利]一種基于超磁致伸縮薄膜的輸液裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011090808.5 | 申請日: | 2020-10-13 |
| 公開(公告)號: | CN112043909A | 公開(公告)日: | 2020-12-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉旭輝;方紫韻;宋浩然;胡慧娜;成玫;蒲美玲;李芳;葉鳴強 | 申請(專利權(quán))人: | 上海應(yīng)用技術(shù)大學(xué);上海牛甲機電科技有限公司;上海亦貝實業(yè)有限公司 |
| 主分類號: | A61M5/14 | 分類號: | A61M5/14;A61M5/168;H02N2/00 |
| 代理公司: | 上海漢聲知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31236 | 代理人: | 胡晶 |
| 地址: | 200235 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 超磁致 伸縮 薄膜 輸液 裝置 | ||
1.一種基于超磁致伸縮薄膜的輸液裝置,其特征在于,包括:
殼體;
輸液管,穿設(shè)于所述殼體;
第一基片,設(shè)于所述殼體且位于所述輸液管徑向的一側(cè);
第二基片,設(shè)于所述殼體且位于所述輸液管徑向的另一側(cè);
第一超磁致伸縮薄膜,設(shè)于所述第一基片;
第二超磁致伸縮薄膜,設(shè)于所述第二基片;
磁場發(fā)生組件,設(shè)于所述殼體,用于產(chǎn)生磁場,且所述磁場強度可調(diào);
其中,所述第一超磁致伸縮薄膜和所述第二超磁致伸縮薄膜在所述磁場的作用下伸長或縮短,以分別帶動所述第一基片和所述第二基片向所述輸液管彎曲,以擠壓所述輸液管;通過調(diào)節(jié)所述磁場強度使所述第一基片和所述第二基片不斷擠壓所述輸液管,以實現(xiàn)輸液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超磁致伸縮薄膜的輸液裝置,其特征在于,所述第一超磁致伸縮薄膜和所述第二超磁致伸縮薄膜均為正磁致伸縮薄膜,所述第一超磁致伸縮薄膜設(shè)于所述第一基片靠近所述輸液管的一端面,所述第二超磁致伸縮薄膜設(shè)于所述第二基片靠近所述輸液管的一端面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超磁致伸縮薄膜的輸液裝置,其特征在于,所述磁場發(fā)生組件為線圈和電源,所述電源用于給所述線圈供電。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于超磁致伸縮薄膜的輸液裝置,其特征在于,所述線圈為平面螺旋線圈。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于超磁致伸縮薄膜的輸液裝置,其特征在于,所述輸液管徑向的兩側(cè)分別設(shè)有一個所述線圈。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超磁致伸縮薄膜的輸液裝置,其特征在于,所述殼體與所述輸液管之間設(shè)有防滑圈,以防止兩者之間的相對滑動。
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