[發明專利]輻射制冷膜及制備方法、輻射制冷玻璃及制備方法有效
| 申請號: | 202011090292.4 | 申請日: | 2020-10-13 |
| 公開(公告)號: | CN112239328B | 公開(公告)日: | 2022-01-07 |
| 發明(設計)人: | 胡彬;周軍;周振貴;段將將 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | C03C17/38 | 分類號: | C03C17/38;C03C17/36;C03C17/34;F24F5/00 |
| 代理公司: | 杭州宇信知識產權代理事務所(普通合伙) 33231 | 代理人: | 張宇娟 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 輻射 制冷 制備 方法 玻璃 | ||
1.一種輻射制冷膜,其特征在于,依次包括透明發射體和透明反射體,所述透明發射體在中紅外光波長范圍中具有高發射率,并在可見光波長范圍中具有低吸收率和高透過率,所述透明反射體在近紅外太陽光波長范圍中具有高反射率;在可見光波長范圍下,空氣、所述透明發射體和所述透明反射體三者的有效折射率逐漸增加,所述透明發射體與透明反射體均為一層或多層,且每層均為單一材料制成,所述透明反射體的材料的電子濃度為1020~1021cm-3。
2.根據權利要求1所述的輻射制冷膜,其特征在于,所述透明發射體的有效折射率高出空氣有效折射率的范圍不高于空氣有效折射率的50%,所述透明反射體的有效折射率高出所述透明發射體的有效折射率的范圍不高于所述透明發射體有效折射率的50%。
3.根據權利要求2所述的輻射制冷膜,其特征在于,所述透明發射體的材料選取以下的一種或幾種:二氧化硅、二氧化鈦、碳化硅、氮化硅、聚二甲基硅氧烷、聚對苯二甲基乙二醇脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亞胺、聚苯乙烯、聚碳酸酯、苯乙烯丙烯腈、聚乙烯醇縮丁醛酯;
所述透明反射體的材料選取以下的一種或幾種:氧化銦錫、氟摻雜氧化錫、摻鋁氧化錫、聚(3,4-乙烯二氧噻吩)-聚苯乙烯磺酸;或者,所述透明反射體為超薄金屬層、金屬網格層中的一種。
4.根據權利要求2所述的輻射制冷膜,其特征在于,所述透明發射體內還包括有一層保護層,所述保護層為中紅外透明材料,選取以下中的一種或幾種:聚乙烯、聚4-甲基戊烯、苯乙烯-乙烯/丁烯-苯乙烯嵌段共聚物。
5.一種輻射制冷膜的制備方法,其特征在于,用于制備如權利要求1所述的輻射制冷膜,包括以下步驟:
S1,通過卷對卷的方式形成一層或多層透明發射體,透明發射體的材料從以下中進行選擇:聚二甲基硅氧烷、聚對苯二甲基乙二醇脂、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亞胺、聚苯乙烯、聚碳酸酯、苯乙烯丙烯腈、聚乙烯醇縮丁醛酯;
S2,在所述透明發射體上制備一層或多層透明反射體,所述透明發射體與透明反射體的每層均為單一材料制成,所述透明反射體的材料的電子濃度為1020~1021cm-3。
6.一種輻射制冷玻璃,其特征在于,包括如權利要求1-4任一所述的輻射制冷膜,還包括位于所述透明反射體遠離所述透明發射體一側的普通玻璃。
7.一種輻射制冷玻璃的制備方法,其特征在于,用于制備如權利要求6所述的輻射制冷玻璃,包括以下步驟:
S1,取普通玻璃;
S2,于普通玻璃上形成一層或多層透明反射體,所述透明反射體在近紅外太陽光波長范圍中具有高反射率;
S3,于透明反射體上形成一層或多層透明發射體,所述透明發射體在中紅外光波長范圍中具有高發射率,并在可見光波長范圍中具有低吸收率和高太陽光透過率,所述透明發射體與透明反射體的每層均為單一材料制成,所述透明反射體的材料的電子濃度為1020~1021cm-3。
8.根據權利要求7所述的輻射制冷玻璃的制備方法,其特征在于,所述S2中在形成透明反射體時使用的材料為金屬時,還包括:采用掩膜光刻的方式將該層透明反射體做成金屬網格層。
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