[發(fā)明專利]一種高反光多色漸變鍍膜復(fù)合基材方法

在審

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• 申請日: 2020-10-13
• 公開（公告）號: CN112458408A
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳勝利;謝祥斌;習(xí)鋒
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞市齊品光學(xué)有限公司
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/02
• 代理公司: 東莞市神州眾達專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 44251
• 代理人: 周松強

1.一種高反光多色漸變鍍膜復(fù)合基材方法，包括步驟一，電子蒸發(fā)；步驟二，堆疊鍍制；步驟三，氧化隔離；步驟四，色光漸變；步驟五，裝箱存儲；其特征在于：

其中在上述步驟一中，電子蒸發(fā)包括以下步驟：

1)人工準(zhǔn)備電子束蒸發(fā)機，將蒸發(fā)機進行清洗并消毒；

2)選擇合適的復(fù)合PMMA+PC基材，并將復(fù)合PMMA+PC基材放置在電子束蒸發(fā)機內(nèi)部，通過電子束蒸發(fā)機鍍制二氧化鋯隔離層；

其中在上述步驟二中，堆疊鍍制包括以下步驟：

1)將步驟一2)中具有二氧化鋯隔離層的復(fù)合PMMA+PC基材取出，靜置冷卻，隨后再次放入電子束蒸發(fā)機內(nèi)部；

2)開啟電子束蒸發(fā)機，在隔離層上采用電子束蒸發(fā)鍍制金屬鈦的氧化物，二氧化鈦或五氧化三鈦及二氧化硅摻雜鈦氧化物依次可重復(fù)堆疊的鍍制；

其中在上述步驟三中，氧化隔離包括以下步驟：

1)在復(fù)合基材上制備樹脂層表面上以氧化鋯層隔離，重復(fù)堆疊制備金屬鈦的氧化物和二氧化硅；

2)堆疊的氧化鋯層為10-20nm；氧化鈦和氧化硅堆疊的厚度可控范圍為400-1000nm，即可得到高反光多色漸變鍍膜復(fù)合基材；

其中在上述步驟四中，色光漸變包括以下步驟：

1)將步驟三2)中加工后的復(fù)合PMMA+PC基材進行清洗，烘干靜置；

2)將其放置在大氣環(huán)境、空間溫度自然常溫下，所述堆疊厚度會形成的可見光反射層或多種色光反射層漸變，反射光可達到75％-80％；

其中在上述步驟五中，人工檢測步驟四2)中高反光多色漸變鍍膜復(fù)合基材，并將其打包，放置在陰涼地存儲。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高反光多色漸變鍍膜復(fù)合基材方法，其特征在于：所述步驟一2)中隔離層厚度為10-20nm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高反光多色漸變鍍膜復(fù)合基材方法，其特征在于：所述步驟一2)中待鍍膜的復(fù)合基材去離子水進行清洗預(yù)處理，干燥；待鍍膜基材需鍍膜加溫80℃處理PC材質(zhì)吸附水汽分子，在真空環(huán)境下被抽真空泵去除，真空氣壓抽到3.0-4.5*10^-3pa。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高反光多色漸變鍍膜復(fù)合基材方法，其特征在于：所述步驟三2)中五氧化三鈦和二氧化硅總厚度設(shè)計比列為1:1；厚度可設(shè)計為400-1000nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高反光多色漸變鍍膜復(fù)合基材方法，其特征在于：所述步驟四2)中高反可達R＝75％-80％，可見光波長呈現(xiàn)范圍W＝400-650nm。