[發明專利]基于結構超滑的電極開關

有效

• 申請號: 202011087865.8
• 申請日: 2020-10-13
• 公開（公告）號: CN112151312B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 鄭泉水;吳章輝;向小健
• 申請（專利權）人: 深圳清華大學研究院;清華大學
• 主分類號: H01H59/00
• 分類號: H01H59/00;H01H1/00;H01H1/50;H01H1/36
• 代理公司: 深圳市惠邦知識產權代理事務所 44271
• 代理人: 滿群

1.基于結構超滑的電極開關，包括基底、驅動部件以及滑動部件，其特征在于：所述驅動部件包括設于所述基底內部的第一電極件以及設于所述基底外部的第二電極件，所述第一電極件的數量為至少兩個，所述第二電極件與所有所述第一電極件在垂直于基底表面的方向上均具有正對面積，所述滑動部件設于所述第一電極件和所述第二電極件之間，且所述基底和所述滑動部件超滑接觸，對任一或多個所述第一電極件，和/或，所述第二電極件交替施加電壓或接地，所述滑動部件的兩側形成壓差，所述滑動部件在所述基底上運動。

2.如權利要求1所述的基于結構超滑的電極開關，其特征在于：所述第二電極件設于所述滑動部件的上方，且所述第二電極件和所述滑動部件之間具有間隙。

3.如權利要求2所述的基于結構超滑的電極開關，其特征在于：所述第二電極件接地設置，任意兩個所述第一電極件交替施加電壓或接地。

4.如權利要求3所述的基于結構超滑的電極開關，其特征在于：所述第一電極件的數量為兩個，對兩個所述第一電極件交替施加電壓或接地。

5.如權利要求1至4任一項所述的基于結構超滑的電極開關，其特征在于：至少兩個所述第一電極件均設于所述基底的內部，且所述第一電極件的上表面不超出所述基底的上表面。

6.如權利要求1至4任一項所述的基于結構超滑的電極開關，其特征在于：所述滑動部件包括超滑片和設于所述超滑片上的絕緣層，所述超滑片設于所述基底上，所述絕緣層位于所述超滑片和所述第二電極件之間。

7.如權利要求1至4任一項所述的基于結構超滑的電極開關，其特征在于：初始位置時，所述滑動部件在寬度方向上與所有所述驅動部件對齊，且所述滑動部件同時與所有所述驅動部件有正對面積。

8.如權利要求1至4任一項所述的基于結構超滑的電極開關，其特征在于：所述第二電極件的橫截面的面積大于單個所述第一電極件的橫截面的面積。