[發明專利]一種圓柱型原子氣室石蠟抗弛豫鍍膜裝置及控制系統

有效

• 申請號: 202011087016.2
• 申請日: 2020-10-12
• 公開（公告）號: CN112246489B
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發明（設計）人: 馬宗敏;劉俊;董誠;石云波;唐軍;王慧云;魏久焱
• 申請（專利權）人: 中北大學
• 主分類號: B05B13/06
• 分類號: B05B13/06;B05B13/02;B05B16/20;B05B12/00;B05D5/00;B05D7/22
• 代理公司: 太原科衛專利事務所(普通合伙) 14100
• 代理人: 朱源

1.一種圓柱型原子氣室石蠟抗弛豫鍍膜裝置及控制系統，其特征在于：包括石蠟儲備單元（1）、加熱鍍膜單元（2）、旋轉驅動單元（3）、原子氣室支撐單元（6）和驅動輪（7）；石蠟儲備單元（1）包括石蠟溶液容器（1-1）、蠕動泵（1-2）、石蠟溶液噴頭（1-3），蠕動泵（1-2）通過管路和石蠟溶液容器（1-1）連接，所述管路的自由端固定石蠟溶液噴頭（1-3）；加熱鍍膜單元（2）包括恒溫加熱管（2-1）和加熱鍍膜單元支架（2-2），加熱鍍膜單元支架（2-2）頂部固定加熱管體，加熱管體的外壁上纏繞加熱電阻絲構成恒溫加熱管（2-1）；旋轉驅動單元（3）包括伺服電機（3-1）、驅動小齒輪（3-2）、環狀的從動大齒輪（3-3）、軸向運動滾輪（3-4），伺服電機（3-1）和驅動小齒輪（3-2）連接，驅動小齒輪（3-2）外圈和從動大齒輪（3-3）的外圈嚙合，從動大齒輪（3-3）的內圈圓周均布軸向運動滾輪（3-4），軸向運動滾輪（3-4）在原子氣室軸向方向轉動；原子氣室支撐單元（6）包括支撐滾珠（6-2）、滾珠鋼圈（6-3）和氣室支架（6-4），氣室支架（6-4）的頂部固定滾珠鋼圈（6-3），滾珠鋼圈（6-3）內均布支撐滾珠（6-2）；驅動輪（7）包括周向運動滾輪（7-1）、驅動電機（7-2）、徑向運動輪（7-3），驅動電機（7-2）和徑向運動輪（7-3）連接，徑向運動輪（7-3）在原子氣室軸向方向轉動，徑向運動輪（7-3）的外圈圓周均布有周向運動滾輪（7-1），周向運動滾輪（7-1）在原子氣室周向方向轉動。

2.根據權利要求1所述的一種圓柱型原子氣室石蠟抗弛豫鍍膜裝置及控制系統，其特征在于：還包括光學鍍膜均勻檢測器（4）和微區加熱鍍膜修整單元（5），光學鍍膜均勻檢測器（4）包括多象限光線偏轉探測器（4-1）、激光控制器（4-2）、連接線（4-3）、激光探頭（4-4）、光學鍍膜均勻檢測器支架（4-5），光學鍍膜均勻檢測器支架（4-5）的頂部固定檢測管體，檢測管體的內壁上固定多象限光線偏轉探測器（4-1）和激光探頭（4-4），多象限光線偏轉探測器（4-1）和激光探頭（4-4）正對，激光控制器（4-2）通過連接線（4-3）和激光探頭（4-4）連接；微區加熱鍍膜修整單元（5）包括微區加熱筒（5-1）和微區加熱鍍膜修整單元支架（5-2），微區加熱鍍膜修整單元支架（5-2）的頂部固定加熱筒體，加熱筒體內壁上均布加熱片形成微區加熱筒（5-1）；計算機對光學鍍膜均勻檢測器（4）輸出的信息進行分析，控制微區加熱筒（5-1）中對應位置的加熱片工作，對鍍膜上不均勻部分進行融化重鍍，以確保鍍膜的均勻性。

3.根據權利要求1或2所述的一種圓柱型原子氣室石蠟抗弛豫鍍膜裝置及控制系統，其特征在于：所述的石蠟溶液由石蠟與正庚烷質量比1:400進行溶液配制，對配置好的溶液進行攪拌，使溶液均勻。

4.根據權利要求1或2所述的一種圓柱型原子氣室石蠟抗弛豫鍍膜裝置及控制系統，其特征在于：支撐滾珠（6-2）和滾珠鋼圈（6-3）之間涂有油膜，使兩者之間阻力小，不會影響氣室（6-1）在軸向上的移動和周向上轉動，僅起到支撐作用。