[發(fā)明專利]一種鎳鈷溶液凈化除硅的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011078830.8
• 申請日: 2020-10-10
• 公開（公告）號: CN112209452B
• 公開（公告）日: 2023-01-24
• 發(fā)明（設計）人: 況鑫;尹俊;陳衛(wèi)東;周彩鳳;陳吉仙;林大志;田建華;朱靜薰
• 申請（專利權(quán)）人: 廣西銀億新材料有限公司
• 主分類號: C01G53/10
• 分類號: C01G53/10;C01G51/10
• 代理公司: 深圳市科吉華烽知識產(chǎn)權(quán)事務所(普通合伙) 44248
• 代理人: 胡吉科

1.一種鎳鈷溶液凈化除硅的方法，其特征在于，包括如下步驟∶

S1除硅：向酸溶后鎳鈷溶液中加入除硅試劑氫氧化鋯，反應結(jié)束后固液分離，得到第一硅渣和第一除硅后液；第一硅渣進入洗滌工序；第一硅渣漿化洗滌后得到第一水洗液和第一水洗硅渣；第一水洗液與第一除硅后液合并進入下一工序，第一水洗硅渣進入解吸工序；

S2解吸：向第一水洗硅渣中加入水，攪拌漿化，加入無機酸調(diào)節(jié)pH使硅溶出，解吸結(jié)束后固液分離，得到第一解吸液和第一解吸硅渣，第一解吸液進入廢水處理系統(tǒng)，第一解吸硅渣進入解吸后洗滌工序；第一解吸硅渣漿化洗滌后得到第二水洗液和第二水洗硅渣；第二水洗液進入廢水處理系統(tǒng)，第二水洗硅渣進入再生工序；所述無機酸為硫酸，解吸pH為1.0-1.5；

S3再生：向第二水洗硅渣中加入水，攪拌漿化，加入堿調(diào)節(jié)pH，再生結(jié)束后固液分離，得到第一再生液和第一再生氫氧化鋯，第一再生液進入廢水處理系統(tǒng)，第一再生氫氧化鋯進入洗鈉工序；所述堿為10％－50％的氫氧化鈉水溶液，再生pH為10.0－11.0；

S4洗鈉：向第一再生氫氧化鋯中加入水進行漿化洗滌，洗滌結(jié)束后得到第三水洗液和洗鈉后第一氫氧化鋯；第三水洗液進入廢水處理系統(tǒng)，洗鈉后第一氫氧化鋯進入步驟S1－S4，多次循環(huán)步驟S1－S4。

2.如權(quán)利要求1所述的鎳鈷溶液凈化除硅的方法，其特征在于：所述除硅試劑氫氧化鋯的用量為以SiO₂計鎳鈷溶液中硅質(zhì)量的60-100倍。

3.如權(quán)利要求1所述的鎳鈷溶液凈化除硅的方法，其特征在于：所述鎳鈷溶液pH為2.5－4.0，鎳鈷溶液中主金屬離子濃度為30－130g/L。

4.如權(quán)利要求1所述的鎳鈷溶液凈化除硅的方法，其特征在于：步驟S1除硅的反應時間為0.5－2h，步驟S2解吸的時間和S3再生的時間均為1－2h。

5.如權(quán)利要求1所述的鎳鈷溶液凈化除硅的方法，其特征在于：步驟S4中，所述洗鈉的級數(shù)為2－3級。

6.如權(quán)利要求1所述的鎳鈷溶液凈化除硅的方法，其特征在于：步驟S1－S4中，反應或洗滌溫度均為20℃－80℃。

7.如權(quán)利要求1所述的鎳鈷溶液凈化除硅的方法，其特征在于：步驟S1－S4中，所述漿化洗滌用水量、所述解吸與再生時所加水的量均為濕基質(zhì)量的3－6倍。