[發(fā)明專利]增亮膜、壓輪及壓輪的制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011074384.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112230463A | 公開(公告)日: | 2021-01-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 洪志宗;張立典;蔡宏鍇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東莞市光志光電有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335;G02F1/13357 |
| 代理公司: | 深圳中細(xì)軟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44528 | 代理人: | 唐楠 |
| 地址: | 523850 廣東省東莞市長*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 增亮膜 制備 方法 | ||
1.一種增亮膜,其特征在于,包括基底和層疊在所述基底上的棱鏡結(jié)構(gòu),所述棱鏡結(jié)構(gòu)由多個(gè)三棱鏡形成,且其中一個(gè)所述三棱鏡的中線和另一個(gè)所述三棱鏡的中線不平行,中線為所述三棱鏡的頂峰至所述基底所在平面的中線。
2.如權(quán)利要求1所述的增亮膜,其特征在于,多個(gè)所述三棱鏡的頂峰至所述基底所在平面的中線與所述基底所在平面的垂線的夾角依次呈線性變化。
3.如權(quán)利要求1所述的增亮膜,其特征在于,多個(gè)所述三棱鏡的頂峰至所述基底所在平面的中線與所述基底所在平面的垂線的夾角依次呈二次或多次多項(xiàng)式變化。
4.如權(quán)利要求1所述的增亮膜,其特征在于,多個(gè)所述三棱鏡的頂峰至所述基底所在平面的中線與所述基底所在平面的垂線的夾角隨機(jī)變化。
5.如權(quán)利要求1所述的增亮膜,其特征在于,多個(gè)所述三棱鏡的頂峰至所述基底所在平面的中線與所述基底所在平面的垂線的夾角依次呈波形變化。
6.如權(quán)利要求1所述的增亮膜,其特征在于,任一所述三棱鏡的頂峰至所述基底所在平面的中線與所述基底所在平面的垂線的夾角小于30°。
7.如權(quán)利要求1所述的增亮膜,其特征在于,所述基底厚度為10μm-50μm或者為50μm-100μm。
8.如權(quán)利要求1所述的增亮膜,其特征在于,任一所述三棱鏡的頂峰至所述基底所在平面的高度為5μm-50μm。
9.如權(quán)利要求1所述的增亮膜,其特征在于,相鄰兩個(gè)所述三棱鏡的頂峰的間距為10μm-100μm。
10.如權(quán)利要求1所述的增亮膜,其特征在于,任一所述三棱鏡的頂峰的角度為65°-105°。
11.如權(quán)利要求1所述的增亮膜,其特征在于,其中一個(gè)最大所述三棱鏡的頂峰至所述基底所在平面的高度與另一個(gè)最小所述三棱鏡的頂峰至所述基底所在平面的高度之差小于所述棱鏡結(jié)構(gòu)高度的50%。
12.如權(quán)利要求1所述的增亮膜,其特征在于,多個(gè)所述三棱鏡的峰值呈規(guī)則或不規(guī)則變化。
13.一種壓輪,用于滾壓形成如權(quán)利要求1至12任一項(xiàng)所述的棱鏡結(jié)構(gòu),其特征在于,所述壓輪形成有凹槽結(jié)構(gòu),所述凹槽結(jié)構(gòu)與所述棱鏡結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)。
14.一種壓輪的制備方法,用于加工如權(quán)利要求13所述的壓輪,其特征在于,包括如下步驟:
S1:提供基材和刀具;
S2:所述刀具朝旋轉(zhuǎn)中的所述基材移動(dòng)以切割所述基材形成凹槽,接著所述刀具偏轉(zhuǎn)一角度,所述刀具再次切割旋轉(zhuǎn)中的所述基材,形成另一個(gè)凹槽;
重復(fù)多次后,所述基材形成所述凹槽結(jié)構(gòu)。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
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