[發明專利]一種用于雙波長激光偵察系統的便攜式光軸檢測模塊有效
| 申請號： | 202011074382.4 | 申請日： | 2020-10-09 |
| 公開（公告）號： | CN112213078B | 公開（公告）日： | 2022-05-20 |
| 發明（設計）人： | 黎偉;曹海源;初華;萬強;米朝偉;劉旭;韋尚方;魏靖松;黃國俊;王賽 | 申請（專利權）人： | 中國人民解放軍陸軍工程大學 |
| 主分類號： | G01M11/02 | 分類號： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 武漢宇晨專利事務所(普通合伙) 42001 | 代理人： | 李鵬;王敏鋒 |
| 地址： | 430075 *** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 波長 激光 偵察 系統 便攜式 光軸 檢測 模塊 | ||
1.一種用于雙波長激光偵察系統的便攜式光軸檢測模塊，包括合束棱鏡組(1)，其特征在于，還包括聚焦物鏡組(2)、分光補償棱鏡組(31)、合束補償棱鏡組(32)、1.06um漸變密度衰減盤(4)、1.57um漸變密度衰減盤(5)、分光棱鏡(6)、InGaAs成像組件(7)和分劃板(8)，
待測裝備輸出的1.06um的激光和1.57um的激光經合束棱鏡組(1)合束后經聚焦物鏡組(2)入射分光補償棱鏡組(31)，分光補償棱鏡組(31)輸出波長為1.06um的第一反射光、波長為450-650nm的第二反射光和波長為1.57um的第三反射光，
經1.06um漸變密度衰減盤(4)衰減后的第一反射光、經1.57um漸變密度衰減盤(5)衰減后的第三反射光、以及第二反射光經合束補償棱鏡組(32)合束后入射分光棱鏡(6)，由分光棱鏡(6)分光后的兩部分光分別入射InGaAs成像組件(7)和分劃板(8)。
2.根據權利要求1所述的一種用于雙波長激光偵察系統的便攜式光軸檢測模塊，其特征在于，所述的分光補償棱鏡組(31)包括依次分布的鍍設有1.06um反射膜的斜面、鍍設有450-650nm可見光反射膜的斜面、以及鍍設有1.57um激光反射膜的斜面。
3.根據權利要求1所述的一種用于雙波長激光偵察系統的便攜式光軸檢測模塊，其特征在于，所述的合束補償棱鏡組(32)包括依次分布的鍍設有1.06um反射膜的斜面、鍍設有450-650nm可見光反射膜的斜面、以及鍍設有1.57um激光透射膜的斜面。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國人民解放軍陸軍工程大學，未經中國人民解放軍陸軍工程大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011074382.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
