[發明專利]一種光學膜基材及其制備方法

有效

• 申請號: 202011073840.2
• 申請日: 2020-10-09
• 公開（公告）號: CN112959781B
• 公開（公告）日: 2022-01-11
• 發明（設計）人: 吳培服;王琪;池衛
• 申請（專利權）人: 江蘇雙星彩塑新材料股份有限公司
• 主分類號: B32B27/36
• 分類號: B32B27/36;B32B27/06;B32B33/00;C09D133/12;C09D7/61;C09D7/63;C08J7/043;C08J7/046;C08J7/04;B29D7/01
• 代理公司: 北京尚德技研知識產權代理事務所(普通合伙) 11378
• 代理人: 嚴勇剛;段澤賢

1.一種光學膜基材的制備方法，所述光學膜基材包括聚酯薄膜（3）以及在聚酯薄膜（3）的至少一面形成的亞克力涂層（2），其特征在于，所述方法包括聚酯薄膜（3）的制備步驟，以及獲得聚酯薄膜（3）之后，在聚酯薄膜（3）的表面形成亞克力涂層（2）的步驟；

所述聚酯薄膜的制備步驟包括：將含有功能料切片的聚酯母料切片，輸入薄膜制備機構，通過熔融擠出、模頭鑄片、橫向遠紅外拉伸、冷卻定型、收卷、分切，制成單層結構的聚酯薄膜；所述亞克力涂層形成在所述聚酯薄膜的一側或者兩側；

所述聚酯母料切片中含有1.0 wt%～5.0 wt%的功能料切片，所述功能料切片包含氣凝膠50～55重量份、聚乳酸10～15重量份、聚苯乙烯或聚乙烯30～60重量份，聚二甲基硅氧烷30～40重量份，堿土金屬硅酸鹽10～15重量份；

所述亞克力涂層（2）包含如下組分：70-80重量份的聚甲基丙烯酸甲酯、10-20重量份的正硅酸乙酯、2-5重量份的硫化鋅以及10-20重量份的甲基三乙氧基硅烷。

2.一種光學膜基材的制備方法，所述光學膜基材包括聚酯薄膜（3）以及在聚酯薄膜（3）的至少一面形成的亞克力涂層（2），其特征在于，所述方法包括聚酯薄膜（3）的制備步驟，以及獲得聚酯薄膜（3）之后，在聚酯薄膜（3）的表面形成亞克力涂層（2）的步驟；

所述聚酯薄膜（3）的制備步驟包括：將含有功能料切片的聚酯母料切片作為聚酯薄膜（3）的工作聚酯層（31）的原料，將普通膜用聚酯切片作為聚酯薄膜（3）的支撐聚酯層（33）的原料，分別輸入薄膜制備機構，通過熔融擠出、模頭鑄片、橫向遠紅外拉伸、冷卻定型、收卷、分切，制成雙層復合結構的聚酯薄膜；所述亞克力涂層（2）形成在聚酯薄膜（3）的工作聚酯層（31）的外表面；

所述聚酯母料切片中含有1.0 wt%～5.0 wt%的功能料切片，所述功能料切片包含氣凝膠50～55重量份、聚乳酸10～15重量份、聚苯乙烯或聚乙烯30～60重量份，聚二甲基硅氧烷30～40重量份，堿土金屬硅酸鹽10～15重量份；

所述亞克力涂層（2）包含如下組分：70-80重量份的聚甲基丙烯酸甲酯、10-20重量份的正硅酸乙酯、2-5重量份的硫化鋅以及10-20重量份的甲基三乙氧基硅烷。

3.一種光學膜基材的制備方法，所述光學膜基材包括聚酯薄膜（3）以及在聚酯薄膜（3）的至少一面形成的亞克力涂層（2），其特征在于，所述方法包括聚酯薄膜（3）的制備步驟，以及獲得聚酯薄膜（3）之后，在聚酯薄膜（3）的表面形成亞克力涂層（2）的步驟；

所述聚酯薄膜（3）的制備步驟包括：將含有功能料切片的聚酯母料切片作為聚酯薄膜（3）的兩側的工作聚酯層（31）的原料，將普通膜用聚酯切片作為聚酯薄膜（3）的中間的支撐聚酯層（33）的原料，分別輸入薄膜制備機構，通過熔融擠出、模頭鑄片、橫向遠紅外拉伸、冷卻定型、收卷、分切，制成三層復合結構的聚酯薄膜；所述亞克力涂層（2）形成在所述聚酯薄膜（3）的兩側的工作聚酯層（31）的外表面；

所述聚酯母料切片中含有1.0 wt%～5.0 wt%的功能料切片，所述功能料切片包含氣凝膠50～55重量份、聚乳酸10～15重量份、聚苯乙烯或聚乙烯30～60重量份，聚二甲基硅氧烷30～40重量份，堿土金屬硅酸鹽10～15重量份；

所述亞克力涂層（2）包含如下組分：70-80重量份的聚甲基丙烯酸甲酯、10-20重量份的正硅酸乙酯、2-5重量份的硫化鋅以及10-20重量份的甲基三乙氧基硅烷。

4.如權利要求1-3之一所述的方法，其特征在于，形成所述亞克力涂層（2）的步驟包括：將構成亞克力涂層的組分按照每100重量份的比例，添加到50-200重量份的乙醚和50-100重量份的去離子水中均勻混合，然后通過旋涂或者噴涂方式涂覆在復合聚酯薄膜的表面，在90-100℃下固化2-3小時，即可制備獲得亞克力涂層。