[發明專利]成膜裝置、控制裝置以及壓力計的調整方法

在審

• 申請號: 202011073511.8
• 申請日: 2020-10-09
• 公開（公告）號: CN112680718A
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 及川大海
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/52;C23C16/458;C23C16/40;C23C16/44
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

本發明提供一種成膜裝置、控制裝置以及壓力計的調整方法，能夠自動地執行壓力計的零點調整。本公開的一個方式的成膜裝置具備能夠被減壓的處理容器、檢測所述處理容器內的壓力的壓力計以及控制部，其中，所述控制部構成為，重復進行包括調整所述壓力計的零點的步驟和在所述處理容器內執行成膜處理的步驟的循環，直至當在執行所述成膜處理的步驟之后將所述處理容器內排氣至最高到達真空度時由所述壓力計檢測出的到達壓力達到目標范圍內為止。

技術領域

本公開涉及一種成膜裝置、控制裝置以及壓力計的調整方法。

背景技術

關于檢測能夠減壓的處理容器內的壓力的隔膜式的壓力測定器，已知一種即使在隔膜附著有固體的情況下也能夠減輕從附著的固體作用的應力對隔膜的變形產生的影響的壓力測定器(例如參照專利文獻1)。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2014-137275號公報

發明內容

發明要解決的問題

本公開提供一種能夠自動地執行壓力計的零點調整的技術。

用于解決問題的方案

本公開的一個方式的成膜裝置具備：處理容器，其能夠減壓；壓力計，其檢測所述處理容器內的壓力；以及控制部，其中，所述控制部構成為，重復進行包括調整所述壓力計的零點的步驟和在所述處理容器內執行成膜處理的步驟的循環，直至當在執行所述成膜處理的步驟之后將所述處理容器內排氣至最高到達真空度時由所述壓力計檢測出的到達壓力達到目標范圍為止。

發明的效果

根據本公開，能夠自動地執行壓力計的零點調整。

附圖說明

圖1是表示一個實施方式的成膜裝置的結構例的概要圖。

圖2是表示壓力計的一例的圖。

圖3是表示一個實施方式的壓力計的調整方法的流程圖。

圖4是表示一個實施方式的壓力計的調整方法的具體例的圖。

圖5是表示包括成膜裝置的系統的一例的圖。

附圖標記說明

1：成膜裝置；10：處理容器；60：壓力計；80：控制部。

具體實施方式

下面，參照附圖來說明本公開的非限定性的例示的實施方式。在全部的附圖中，對相同或對應的構件或部件標注相同或對應的參照標記，省略重復的說明。

〔成膜裝置〕

圖1是表示一個實施方式的成膜裝置的結構例的概要圖。如圖1所示，成膜裝置1具有處理容器10、氣體供給部30、排氣部40、加熱部50、壓力計60、控制部80等。

處理容器10的內部能夠減壓，該處理容器10用于收容作為基板的半導體晶圓(下面稱作“晶圓W”。)。處理容器10具有下端開放的有頂的圓筒形狀的內管11以及下端開放且覆蓋內管11的外側的有頂的圓筒形狀的外管12。內管11和外管12由石英等耐熱性材料形成，同軸狀地配置成雙層管構造。

內管11的頂部例如是平坦的。在內管11的一側，沿著其長度方向(上下方向)形成有用于收容氣體噴嘴的收容部13。在一個實施方式中，使內管11的側壁的一部分朝向外側突出而形成凸部14，將凸部14內形成為收容部13。