[發明專利]混合噴射器噴嘴和流量控制裝置

有效

• 申請號: 202011072776.6
• 申請日: 2015-05-21
• 公開（公告）號: CN112570696B
• 公開（公告）日: 2022-07-19
• 發明（設計）人: S.R.瓦格斯塔夫;R.B.瓦格斯塔夫
• 申請（專利權）人: 諾維爾里斯公司
• 主分類號: B22D37/00
• 分類號: B22D37/00;B22D1/00;B22D2/00;B22D27/09
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 肖日松;王瑋

1.一種金屬鑄造系統，其包括：

進料管，其能耦合到熔融金屬的來源；

主噴嘴，其位于所述進料管的遠端，其中所述主噴嘴可浸沒于熔融物貯槽中用于將所述熔融金屬遞送到所述熔融物貯槽，并且其中所述主噴嘴包括所述熔融金屬穿過其中的出口開口；以及

二級噴嘴，其可浸沒于所述熔融物貯槽中且鄰近所述主噴嘴定位，其中所述二級噴嘴從所述二級噴嘴的入口到所述二級噴嘴的出口在內徑上減小以形成限制，響應于所述熔融金屬從所述主噴嘴的出口開口穿過所述限制，在所述限制內產生低壓區以使所述熔融物貯槽的一部分循環穿過所述限制。

2.根據權利要求1所述的金屬鑄造系統，其中所述熔融物貯槽為正鑄造的鑄錠的液體金屬。

3.根據權利要求1所述的金屬鑄造系統，其中所述熔融物貯槽為爐內的液體金屬。

4.根據權利要求1所述的金屬鑄造系統，其中所述二級噴嘴耦合到所述主噴嘴。

5.根據權利要求1所述的金屬鑄造系統，另外包括鄰近所述進料管的流量控制裝置，用于控制所述熔融金屬通過所述主噴嘴的流量。

6.根據權利要求5所述的金屬鑄造系統，其中所述流量控制裝置包含用于在所述進料管內產生改變的磁場的一或多個磁性源。

7.根據權利要求6所述的金屬鑄造系統，其中所述一或多個磁性源被定位以誘發所述進料管內的所述熔融金屬的旋轉移動。

8.根據權利要求6所述的金屬鑄造系統，進一步包括鄰近所述進料管定位的溫度控制裝置，用于從所述進料管內的所述熔融金屬去除熱量。

9.根據權利要求8所述的金屬鑄造系統，進一步包括：

鄰近所述進料管的溫度探針，其用于測量所述熔融金屬的溫度；以及

控制器，其耦合到所述溫度探針和所述溫度控制裝置以響應于由所述溫度探針測量的所述溫度調整所述溫度控制裝置。

10.根據權利要求1所述的金屬鑄造系統，其中所述主噴嘴在形狀上為矩形。

11.根據權利要求1所述的金屬鑄造系統，其中所述進料管進一步包含位于所述進料管的所述遠端的第二主噴嘴，其中所述第二主噴嘴可浸沒于所述熔融物貯槽中用于將所述熔融金屬遞送到所述熔融物貯槽；且其中所述金屬鑄造系統進一步包括可浸沒于所述熔融物貯槽中且鄰近所述第二主噴嘴定位的第二二級噴嘴，其中所述第二二級噴嘴包含第二限制，所述第二限制被成形以響應于來自所述來源的所述熔融金屬穿過所述第二限制而在所述第二限制內產生第二低壓區以使所述熔融物貯槽的一部分循環穿過所述第二限制。

12.根據權利要求11所述的金屬鑄造系統，另外包括鄰近所述進料管的流量控制裝置，用于控制通過所述主噴嘴和所述第二主噴嘴的所述熔融金屬的流量。

13.一種金屬鑄造系統，包括：

進料管，其能耦合到熔融金屬的來源；

主噴嘴，其位于所述進料管的遠端，其中所述主噴嘴可浸沒于熔融物貯槽中用于將所述熔融金屬遞送到所述熔融物貯槽；以及

流量控制裝置，其鄰近所述進料管定位，其中所述流量控制裝置包含至少一個磁性源用于誘發所述熔融金屬在所述進料管內的移動；以及

二級噴嘴，其可浸沒于所述熔融物貯槽中且鄰近所述主噴嘴定位，其中所述二級噴嘴從所述二級噴嘴的入口到所述二級噴嘴的出口在內徑上減小以形成限制，響應于所述熔融金屬從所述主噴嘴的出口開口穿過所述限制，在所述限制內產生低壓區以使所述熔融物貯槽的一部分循環穿過所述限制。

14.根據權利要求13所述的金屬鑄造系統，其中所述流量控制裝置包含定位于至少一個轉子周圍的多個永久磁體，其中響應于所述至少一個轉子的旋轉產生改變的磁場。