[發(fā)明專利]足部消毒裝置、方法及其存儲介質

在審

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• 申請日: 2020-10-09
• 公開（公告）號: CN112121293A
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發(fā)明（設計）人: 劉方偉
• 申請（專利權）人: 東莞職業(yè)技術學院
• 主分類號: A61M35/00
• 分類號: A61M35/00;G06K9/00;G06T1/20;A47K10/48
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 梁國平

本發(fā)明公開了足部消毒裝置、方法及其存儲介質，其中足部消毒裝置包括殼體、足部菌群分析模塊、消毒模塊和控制器；殼體設有足部放置腔；足部菌群分析模塊包括用于拍攝足部圖像的圖像拍攝器和用于根據足部圖像得到足部菌群分布的圖像處理器；消毒模塊用于對足部進行消毒處理；控制器根據足部菌群分布控制消毒模塊釋放消毒物料的濃度和工作時間。根據使用者實際的足部菌群分布控制消毒模塊工作，確保能全面消滅使用者足部菌群，保障使用者的足部健康。

技術領域

本發(fā)明涉及足療領域，特別是足部消毒裝置、方法及其存儲介質。

背景技術

足部如果長時間處于溫暖潮濕不通風的環(huán)境下，容易造成細菌繁衍，進而引起灰指甲、足癬、腳氣等足部疾病，而且容易造成交叉感染，導致足部染病面積增大。因此對足部殺菌非常重要。目前足療儀通常只是簡單地按照足療儀既定程序運行，不能依據使用者足部實際情況進行殺菌。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的在于至少解決現有技術中存在的技術問題之一，提供足部消毒裝置、方法及其存儲介質。

本發(fā)明解決其問題所采用的技術方案是：

本發(fā)明的第一方面，足部消毒裝置，包括：

殼體，所述殼體設有足部放置腔和與所述足部放置腔連通的足部進出口；

足部菌群分析模塊，所述足部菌群分析模塊包括用于拍攝足部圖像的圖像拍攝器和用于根據所述足部圖像得到足部菌群分布的圖像處理器；

消毒模塊，所述消毒模塊用于對足部進行消毒處理；以及

控制器，所述控制器根據所述足部菌群分布控制所述消毒模塊釋放消毒物料的濃度和所述消毒模塊工作的時間。

根據本發(fā)明的第一方面，所述消毒模塊包括位于所述殼體中的水存儲室和位于所述水存儲室中的臭氧產生器；所述臭氧產生器電解所述水存儲室中的水產生臭氧；所述足部放置腔的腔壁設有多個第一出氣孔，所述第一出氣孔與所述水存儲室連通。

根據本發(fā)明的第一方面，所述控制器根據足部菌群分布控制消毒模塊釋放消毒物料的濃度具體為：所述控制器根據足部菌群分布控制所述臭氧產生器電解水的效率，進而控制釋放臭氧的濃度。

根據本發(fā)明的第一方面，足部消毒裝置還包括足部干燥模塊，所述足部干燥模塊用于對消毒后的足部進行干燥。

根據本發(fā)明的第一方面，所述足部干燥模塊包括位于殼體中的熱風產生室和位于所述熱風產生室中的熱風產生裝置；所述足部放置腔的腔壁設有多個第二出氣孔，所述第二出氣孔與所述熱風產生室連通。

本發(fā)明的第二方面，足部消毒方法，包括以下步驟：

拍攝放在足部消毒裝置的足部放置腔中的足部的足部圖像；

根據所述足部圖像得到足部菌群分布；

根據所述足部菌群分布控制所述足部消毒裝置的消毒模塊釋放消毒物料的濃度和所述消毒模塊工作的時間。

根據本發(fā)明的第二方面，控制所述足部消毒裝置的圖像拍攝器對所述足部放置腔中的足部的不同區(qū)域拍攝所述足部圖像；控制所述足部消毒裝置的圖像處理器根據所述足部圖像計算單位面積菌數，通過所述單位面積菌數反映對應區(qū)域的足部菌群分布。

根據本發(fā)明的第二方面，通過圖像識別技術識別出所述足部圖像中的指定菌種，計算單位面積指定菌種的數目，通過所述單位面積指定菌種的數目反映對應區(qū)域的足部菌群分布。

根據本發(fā)明的第二方面，控制所述足部消毒裝置的干燥模塊對消毒后的足部進行干燥。

本發(fā)明的第三方面，存儲介質存儲有可執(zhí)行指令，可執(zhí)行指令能被計算機執(zhí)行，使所述計算機執(zhí)行如本發(fā)明的第一方面所述的足部消毒方法。