[發明專利]一種水下空化清洗盤和裝置及系統

有效

• 申請號: 202011072193.3
• 申請日: 2020-10-09
• 公開（公告）號: CN112298483B
• 公開（公告）日: 2022-06-10
• 發明（設計）人: 張阿漫;張曉龍;王詩平;明付仁
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工程大學
• 主分類號: B63B59/06
• 分類號: B63B59/06;B08B3/02;G03B15/02
• 代理公司: 哈爾濱市陽光惠遠知識產權代理有限公司 23211
• 代理人: 鄧宇

1.一種水下空化清洗系統，其特征在于：包括主殼體、10組水下空化清洗盤和4組反沖裝置；所述的水下空化清洗盤包括空化控制電磁閥；所述的空化控制電磁閥安裝在主殼體內部，空化控制電磁閥通過法蘭連接座與噴管連接座連接；所述的空化控制電磁閥一端通過高壓軟管與高壓進水管連接，另一端與空化與一組空化噴管連接，所有空化噴管均安裝在噴管連接座上；所述的空化噴管一端安裝有空化噴頭，另一端與空化控制電磁閥連接；在所述的噴管連接座安裝在主殼體的正面，噴管連接座外圍布置有空化外罩；在所述的空化控制電磁閥與高壓進水管的連接處設有壓力傳感器；所述的反沖裝置包括反沖控制電磁閥；所述的反沖控制電磁閥安裝在主殼體內部，反沖控制電磁閥一端通過高壓軟管與高壓進水管連接，另一端與反沖噴頭連接；所述反沖噴頭的噴射方向與空化噴頭的噴射方向相反；在所述的反沖控制電磁閥與高壓進水管的連接處設有壓力傳感器；所述的主殼體的正面設有攝像頭、LED燈和防撞彈簧，在主殼體內部設有電路控制箱，在主殼體上部兩側設有吊環，反沖裝置布置多個反沖噴頭，其根據反沖控制電磁閥來調整噴口壓力大小，達到多個反沖噴頭同時作業微調裝置在水下的姿態和位置；所述的主殼體正面左側中部設有第一中央水下空化清洗盤，在第一中央水下空化清洗盤左上方、左下方、右上方和右下方分別設有一組水下空化清洗盤，在第一中央水下空化清洗盤的上方和下方分別設有一組反沖裝置；所述的主殼體正面右側中部設有第二中央水下空化清洗盤，在第二中央水下空化清洗盤左上方、左下方、右上方和右下方分別設有一組水下空化清洗盤，在第二中央水下空化清洗盤的上方和下方分別設有一組反沖裝置；所述的防撞彈簧有4組，分別設置在4組反沖裝置對應的主殼體正面位置；所述的攝像頭設置在主殼體正面中央位置，圍繞攝像頭布置有4組LED燈；所述的高壓進水管的末端設有2個分流管，每根分流管分別通過活口連接環與7根高壓軟管連接。

2.根據權利要求1所述的一種水下空化清洗系統，其特征在于：所述的噴管連接座為圓盤形狀，在噴管連接座上設有5根空化噴管，且5根空化噴管的空化噴頭位于同一外接圓中，各空化噴頭之間夾角相同。